铁电%2f超导集成膜与铁电多层膜的TEM研究.pdfVIP

铁电，超导集成膜和铁电多层膜的TEM研究 刘 维 (t{，1日利。’#院物理6圩宄所，一{·【q柑’#航：氍埭态物弹中心．北康IOC)0{；,0) 一、引 言 高温超导薄膜具有广阔的应nj前景，Wl缸受到人tfl☆J拔人戈注．衔剑J-迅述的发}建。 等多种单品基片上都能制备…具有良好性能的商质量的，岛温超导薄膜。jj此蜘ij、j铁I乜， 高温超导集成薄膜也迅述的发艇起来。随行薄膜制备技术的发胜，州薄f}；!压bi的检测也 征，如薄膜的厚度，单晶化程度，薄膜和衬底丝片之问的界m】状态，是行外延隹l乇．薄 膜的制祷1。艺、提高簿jlI!的质铤提供依槲。 八{一年代透射电予监微求成功的刚』‘、F昔体薄肢和器件的研究-h发塍丁、iiImf¨截 面样品的制备技求和l乜予姐微娩规察山‘法。为半导体薄股和器f，|二的发腱起J’报畦婴的作 用。把这此技术膨脂到高溻超诤薄睃的研究巾．也一定会对一：I潮超导溥睃卡于{：《剐辨竹的 发艉起剑银重要的作月j。本艾将报导往开埏该力+面研究：lI作巾}：j到的i-：要结果： 二、实验方法 极：做TEM艇察之前，必须将薄膜f“rI制备成能矗也‘』：娃微镜，{，删察的电髓fj：d6， 这出娃报天键根嘲难的一步。n前薄噤的l乜镜样^“￡ll播。卜嘤宙婀精疗法一起、1二丽 TEM(PTEM)样品，一是截面TEM(XTEM)样品． u 后在砂纸．I二研壤基片flg,目1．1一_皿，直到厚度约为30m。然后将f”地柚在直径2 31Ⅶri的 钔环L．用离予减薄机，沿衬底一而进行·强丽减薄，商到样tW。t{-有孔涮Iti现为lf：。这样 在扎涮的边缘处就会有许多薄的区域，iU以进行选区电子衍射和透剁fU了照微像的观察。 截If【I 对的特神：一起，然后沿垂商喷面的疗I；d／J：妙纸l：研磨。磨到厚30pm后，在将它粘到 饩径23mm的铒{环l：，Hj离r减薄仪沿}：F两个力。向进行减薄直到样品rf，有孔洞出现为。 这样，就f刑奠在孔洞边缘薄的地乃+寻找囱薄膜的地方进行观察。平面样^＆ur以观察到较 入范m内薄膜-：的情况．J}j】二评价薄谟的质毓比较全面准确。ftt它4i能膻察到薄膜和 i．h彘之M界丽的状态。所以后求又发艟r截喊样r吊制蔷技术。被面样．％W以埘察到薄喷 r÷足外延中长，溥腆的J≯嫂．墩向甜，诮体学参数埘评价沁膜的质撤技制备．L艺的改进都 砬瞄4．Sfl{j依槲。 JEM．200CX型TEML．在200KVF进行的。该 _ I’EM删察魁西jj0囱’顶摘样ⅢII，,角-fr,J 6Ao ，lEM的点分辨串为2 ● 叶 三、结果和讨论 d j 研究r蚪j磁控溅射，激光沉秘和激光分r康外延等办法。扫：STO、YSZ、LAO等 对底j一牛长舶啦层膜，多层膜和集成膜等． 图1是YBCO 膜巾镶嵌结构的电