Co／V多层膜的结构和铁磁共振的研究.pdfVIP

Co／V多层膜的结构及铁磁共振的研究 吴静杜军鹿牧翟宏如 南京大学物理系，固体馓结构物理国家重点实验室，现代分析中心，南京210093 摘要 本文报道了射频磁控溅射制备的Co／V多层膜的结构及铁磁共振行为．对其敛结构的 研究发现多层膜是由柱状晶粒构成的多晶薄膜，在膜的生长方向具有fccco(111)和bcc V010)织构，且存在较严重的界面含金化．从铁磁共振谱中一致进动峰计算出的g因子 和4心正占值偏小也说明了这一点．当V疆较薄时(电．4nm)普遍观测到自旋波共振峰，根 据拟合计算出的较小的层间耦合常数说明多层膜中存在较弱的层问耦合作用． 由于非磁元素钒(v)在过渡金属中具有很大的顺磁磁化率[1】，其x值仅次于准铁 磁元素钯口d)，且位居铂之上[I】。理论计算表明在铁磁性衬底之上生长一层超薄V 层或以v为中间层的磁性多层膜中，V将获得可观的诱导磁矩[2】．因此，以V作为 中间层的磁性多层膜是一个值得研究的课题．我们用射频磁控溅射仪在水冷衬底si (TEM及职TEM)来研究多层膜的结构． ⅪtD小角区可看到一级和二级衍射蜂但 二级峰较模糊，计算得出的调制周期与设 计值较一致．大角衍射图样只表现出一个 I 宽广的峰且介于bccV(I10)与fccC00I) 。、 —王 衍射峰之间． Si02 —— 膜的剖面TEM明场象，其中亮条纹和暗 条纹分别代表“表观的”Co层与“表观 的”V层．可以看出，条纹的横向延续性 尚可，在有些区域出现一些小的波动，这 可能是由衬底表面起伏及溅射过程中的 圈lCoO．5nm)／V(2．2nIll)】20多层膜的剖面 状态涨落造成的． TEM明场象 图2是该样品的剖面HRTEM照片． 从图中我们可以得到以下结果：(1)．Co／V 多层膜呈三维岛状生长(区别于二维生长)，柱状晶粒的横向尺度大约为5nm；(2)．晶 O,cc 面条纹主要是沿平行于膜面方向(其法向如箭头所示)，条纹间距约为0．210nto V010)与fcc 向存在一定的织构．(3)．在有些区域，品面条纹可以跨越几个周期也不改变其取向， 说明在这些区域，生长具有一定的外延性；此外，选区衍射(SAD)图中表现出不连续 的弧段也说明CoN多层膜的生长方向存在一定的择优取向． 70 综合x光衍射与透射电镜显微 结果，我们可以看出CoW多层膜 周期性较好、界面较清晰，在垂直 于膜面方向，Co与V