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2005’全国真空冶金与表面工程学术研讨会会议论文集
AI／A1203多层膜的研究
周丽梅，薛钰芝，钟金德，张兴寰
16028)
(大连交通大学材料科学与工程学院，大连1
z0。多层膜。采用称重法测定薄
摘要：用真空蒸镀及自然氧化方法在玻璃基底上制备纳米量级的4、5、6、7对层的AI／AI
膜的厚度；在常温和低温下使用三点法测定多层膜的电特性；用扫描电镜(SEM)观察薄膜的表面和截面的形貌及成分。结
果表明：制备的是纳米量级非晶态的AI／AI。0。多层膜，在常温和低温(77K)下均具有类似负阻的特性。
关键词：多层膜，类负阻效应
Abstract：A1／A1203with were on substratesthermal inavacuum
multilayers4,5，6，7bilayersgrownglass by evaporation system，
and oxidation．Wethe toevaluatethe theelectric the
spontaneous weightedsamples layers’thickness，detected
surface anddetectedthedistributionof resultsilluminatedthattheAI／A1203 were
topography composition．The multilayers
havethelike resistanceatroom andlow
structure，andthey negative
amouhrphous temperaturetemperature(77K)．
resistance
words：multilayers，like
Key negative
电流来获得不同厚度的薄膜。多层膜制备采用如下
1引言
金属／氧化物多层膜在电子材料，超大规 方法：蒸镀单层铝膜；放置在空气中自然氧化；继
模集成电路以及第三代太阳能电池的研究中具有 续蒸镀铝膜，从而制备多层膜。每一层金属层与氧
很大的意义。我们运用真空蒸发Al和自然氧化法 化层称为一个“对层”。
用称重法，根据公式d=M／PS估算膜厚，其中
可以制备纳米量级的AI／A1203多层膜，在X射线
d为薄膜的厚度，M为薄膜重量，P为薄膜物质密
光电子能谱(XPS)的分析中，发现自然氧化法所
度，S为薄膜面积。实验中使用电子分析天平(精
制备的氧化铝符合A1203的化学配比；透射电镜
度O．1mg)分别称出基片镀膜前后的重量，从增加
(TEM)观察截面样品，发现AI／A1203多层膜(5对
的质量估算平均膜厚。
层)具有较为明晰的周期性结构，多层膜周期(对
在常温和低温(液氮中，77K)下，用三点法，
层)为4nm[1]。进而发现了低温下(77K)三明治
型A1203／A1／A1203多层膜的电性能具有类负阻效
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