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第22卷 增刊 真 空 科 学 与 技 术
2002年 VACUUMSCIENCEANDTECHNOLOGY(CHINA)
离子束辅助沉积技术制备非晶合金薄膜
潘 峰,曾 飞,赵 斌
(先进材料教育部重点实脸室,清华大学材料科学与工程系,北京 100084)
GrowthofAmorphousAlloyFilmsByIonBeamAssistedDeposition
PanFeng,ZengFei,ZhaoBin
(LaboratoryofAduancedMaterials,DepartmentofMaterialsandEngineering,TsinghaaUniversity.Beijing100084China)
AbstractSomeamorphousbinaryalloyfilmshavebeensuccessfullygrownbyionbeamassisteddepwition(IBAD).Themot
phologyandstoichiometryofthefilmswerestudiedwithtransmissionelectronmicroscopy(TEM).Amorphousphasewasfoundto
dominatesinthefilmsofallselectedbinaryalloysystems.Theresultsshowedthatphaseformationofthefilmsisstronglyaffectedby
theformationheat,crystallinestructuresofthemetalcomponentsandionbeamenergies.Observationofsomenewmeta-stablephases
andphaseevolutionindicatesthatthephaseformationmechanismoftheIBADbinaryalloyfilmsmaysignificantlydiffersfromthatof
thefilmsgrownbyionmixingofmulti-layers(IM)
Keywords Ionbeamassisteddeposition,Amorphousalloy,Film
摘 要 本文阐述了用离子束辅助沉积OBAD)技术制备非晶合金薄膜的基本思路,介绍了本研究组在二元合金系统里
制备非晶和亚称晶相的研究结果。研究发现,在所选的几个系统里采用IBAI)技术均实现了非晶化,还发现了某些新相形成
和相演化现象,表现出与多层膜离子束混合(IM)不同的相形成规律。二元系统的形成热、组元金属的晶体结构和辅助离子束
的能(t对相的形成均有重要的影响。这些研究表明IBAD技术在二元合金系统中制备与研究非晶合金薄膜以及亚稳晶态薄
膜方面具有很大的应用前景和理论意义。
关锐词 离子束辅助沉积 月卜 薄膜X
中圈分类号:0751,TG139 文童 文t编号:0253一9748(2002)增一001一04
多层膜离子束混合((IM)和固态反应(SSR)技 远离平衡状态到达某个平衡态或亚稳态,从而使薄
术目前在二元金属系统中研究非晶相和亚稳晶相取 膜或材料表面发生结构或组织的变化。所以离子束
得了很大的成果,已经在很多系统中获得了非晶相 辅助沉积技术从物理过程看可以用于非晶态和亚稳
和亚稳晶相川。但是如果要得到较厚的非晶及亚 晶态的制备。该技术的离子束从商用离子加速器上
稳晶相薄膜,多层膜离子束混合技术必须有很大的 大约几十kV即可获得,理论上可以制备任意厚度
离子加速装置— 高达几百kV以上,这样就限制 的薄膜;另外,与固态反应技术相比,离子束辅助沉
了它们的应用前景。而对于固态反应技术,需要在 积技术可以在任意温度下进行,利用该技术可以使
高温下退火,而很多时候并不希望这种情况发生,比 非晶态及亚稳晶态合金薄膜应用前景成为现实。
如工件或基片可能会在退火的过程中出现结构变化 目前离子束辅助沉积技术广泛用于各种超硬薄
或与薄膜反应。离子束辅助沉积是一种利用离子束 膜的制备[2
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