二氧化硅微细颗粒表面清净、纯化及其应用.pdfVIP

二氧化硅微细颗粒表面清净、纯化及应用 丁一刚1是元欣1李定或2王慧龙1郑家棠1 (‘华中理工走学树鞘并黼工碓E学院武汉430074)(2武江化．工牟{兜化．工系武江430073) 摘要 本文在擦洗、脱泥工序除去表面污染铁质和泥份的基础上，采用填充柱式浮选设 备，纭合有效的捕收、抑制等药剂，可将二氧化硅颗粒中Fe203含量从0．081％下降到 0．014％-0023％，由于该方法能显著除去铁质，同时提高二氧化硅的纯度，因而可使得二氧 化硅得到更好的应庄f。 关键谲二氧化硅微细颗粒表面处理及纯化 、7 1前言 二氧化硅微细粉体是一种重耍的1二业材料，广泛应用于玻璃、铸造、陶瓷、化学、冶 金和耐火材料等工业”‘。从工业利片}价值来说，二氧化硅微细粉体～艘要求高硅、低铝、 微铁和具有一定的粒度范围，粉体中除二氧化硅以外的各种组分，工业上均视为杂质，尤 以铁质危害最大，加之在破碎、细磨等加工过程中，铁质也不同程度混杂其中，因而二氧 化硅粉体中铁质含量不能满足工业应用要求。为提高二氧化硅的品质，通常可以采用氢氟 酸法、硫酸法、无氟无酸法等工艺。4，但该工艺或存在对环境造成氟离子和酸性废水的污 染，或存在微量铁不能进一步有效去除等问题。 本文针对上述存在的问题，在擦洗、脱泥工序除去部分铁质的基础上，采用填充柱式 浮选设备，结台有效的捕收、抑制等药荆，以考察该工艺在除去铁等杂质，同时提高二氧 化硅纯度等方面的适应性。 2实验 2．1试验样鼎 试验样品为微细再英粉，目测为白色(略带黄色)，含有少量黑色颗粒，粒度为+325 目，j95‘％．硅含量991％(si0：计)，铁含量008】％(Fe：0，计)。 2．2试验装置及流程 试验流程如图1所示。粉体配制成30％(重量％)的浆体，经加擦洗药剂I(NaOlt、水 玻璃，后进入擦洗设备，搅拌擦洗卜2小时后脱泥，脱泥后的浆体加水配制成30％(重量％) 的浓度并加浮选药剂II(不同配比的石油磺酸、十二胺)进行调浆，药剂作用后的浆体用 泵打入浮选柱进行硅和铁等杂质的分离，视浮选药荆II的不同从柱顶或柱底得纯化的Si0： 产品，浆相水体经沉降后可回用。 浮选柱工作示意豳如图2所示。柱体采用有机玻璃制成，柱体尺寸为中45×1500mm． 整个柱内充填有刺孔板波纹填料。进料的浆体(试验条件下进料量为150—200M／min)从 浮选丰_}=中部菜位置进入柱体．经压缩后的空气从浮选柱低部给入，离散相的气泡与连续给 入的浆体在回收区内逆流接触。在填料的曲折通道内，经药剂作用的浆体细小颗粒在物理 80— 图1二氧化硅微细粉体纯化工艺流程示意图 圈2气浮柱工作示意圉 和化学力的作用下，泡沫相颗粒粘附在气泡上，并随气流上升到精选区。从柱顶加入的洗 水与上升的气泡流呈逆流动，粘附不牢的浆相颗粒和少量的泡沫相颗粒随冼水返回回收 区，从而使得泡沫相颗粒含量得到提高。整个柱内从柱项到柱低浆相颗粒浓度不断提高， 相应泡沫相颗粒浓度不断减小。泡沫相颗粒随气流从柱顶排出，浆相颗粒从柱低通过液位 控制装置：11}出。 2．3试验分析方法 铁含量采用原子吸收光谱检测，铝含量和硅含量分剐采用铝试剂比色法和重量法进行 分析。 3结果与讨论 3 i二氧化硅微细颗粒表面的清净 末经处理的粉体中含有一定量的泥．微粒表面污染严重。擦洗、脱泥作用有两个方面： 一是能通过微粒本身相互摩擦来除掉细泥和微粒表面的污染物，恢复颗粒表面本来特性． 以利气浮达到分离不同颗粒的日的，同时，为加强擦洗作用，可通过加入擦洗药剂I来强 化操作；二是由于在粉体加工过程中石英易沿着ai开％裂、解离，表面污染物可通过脱泥 工序，利用细小铁杂质和泥份与主体硅砂的沉降速度不同，以及擦洗药剂I中的分散作用， 可除掉部分微小的铁颗粒以及其它杂质，通过该工序铁含量可从0．08i*(Fe：0。计)下降 到0．05—0．063％左右。擦洗、脱泥工序主要控制的条件有攘洗药剂I的加入量、适当的搅 拌强度和时间以及浆体的固含量。表L列出了相同浮选药剂和相同浮选柱操作条件下原料 经不同方式预处理后的浮选除铁试验结果。 表1 原料经不同方式顸处理后的浮选除铁试验结果 3．2二氧化硅