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A1。Ga,.IA8,GaA8量子阱探测器的均匀性研究
郭献东刘天东魏永乐谢东珠李洪发
航天科技集团八院803所上海200233
摘要
本文报导了12
8×1元A1。Ga:0s/GaAs多量子阱探测器的均匀性研究。通过改进上下电
极之间的绝缘工艺.使探测器的均匀性明显提高,其电阻不均匀性小于7.4%,平均响应率
不均匀性小于10%,并获得清晰的手部热像。
1.引言
X128
AlxGa。,oslGaAs多量子阱焦平面阵列在十年来获得快速发展,从1991年的128
迅速发展到1997年双色640×480元。“’其原因是量子阱探测器是利用先进的分子束外延
(rmE)材料和成熟的GaAs工艺技术制作高均匀性的红外焦平面阵列。高均匀性是红外焦
平面阵列品质因数的主要技术指标,在一定的探测率条件下.红外成像的质量主要是由均
匀性决定的。”’由于国内对量子阱焦平面的研究起步较晚,因而均匀性仍然制约多量子阱
红外焦平面的发展。为此,我们开展了128×1元量子阱探测器的均匀性研究。
2.器件制造和测量
量子阱探测器是利用光刻.湿法刻蚀,聚酰亚胺、氮化硅绝缘,真空蒸发电极等工艺
制造的。影响器件均匀性的主要因素是上下电极之间的绝缘。图1是128元线列量子阱探
测器的示意图和像元结构截面图。图中上、下电极材料为Au/Au-Ge—Ni,上N+-GaAs厚度为
2.3um。上下电极之问使用氮化硅一聚酰亚进行绝缘。由于探测器台面结构,因而易出现上
下电极之间短路和阻抗变小的情况.影响了像元探测器的性能。分析其原因是绝缘层阻抗
小或局部有针孔,这样就会对延伸电极产生影响。我们利用晶体管特性图示仪测试伏一安
特性曲线可判断绝缘性能是否正常。图2为完好的绝缘结构电特性曲线。图3为绝缘层有
针孔.引起局部短路的曲线。图4为在下N+层上的绝缘层有小孔引起的局部短路曲线。图
5为绝缘层阻抗变低的曲线。
面
电极
鳓………圜熙陛 电极
Au/AuGeN
下电极
图1 上图为l28元线列GaAs/A1GaAs量子阱红外探测器示意图
下图为一个单元器件结构截面图
』 V2 V1 v
图3阱层绝缘层局部短
路测试曲线
睦v V1
V4
v
图4下N+层绝缘层局部 图5绝缘层阻抗低时测试
短路测试曲线 曲线
根据上述问题,我们采取了适当加厚绝缘层和采用多层绝缘,即氮化硅一聚酰亚胺绝
缘法,从而使暗电阻大小和均匀性明显提高。表1为2#128×1元探测器在3V偏压下测试
的暗阻.其暗阻不均匀性小于7.4%。该器件平均响应率的不均匀性小于10%。
表 1
探测器编号:2#
偏压I 1 l 2 l 3 I 4 l 5 l 6 l 7 I 8 l 9 | 1 0
3V 331.49338.98 373.60 323.28318.47 365.85360.58364.52
l l l l 334.82『329.31l l l l I
由于该器件的均匀性
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