气囊抛光路径对光学元件中频误差的影响.pdfVIP

第 54卷 第 2期 厦门大学学报 (自然科学版) VolI54 NO．2 2015年 3月 JournalofXiamenUniversity (NaturalScience) M ar．2O15 气囊抛光路径对光学元件中频误差的影响 林桂丹，毕 果 ，胡陈林，姜 涛，彭云峰 (JX门大学物理与机 电工程学院，福建 厦门 361005) 摘要：为了寻找消除中频误差的有效抛光路径，进行了2组实验．第 1组实验采用单步进动z字光栅路径和单步进动 螺旋线路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验 ，并对加工后得到试件表面的中频误差进行分析．第 2组实验先采 用单步进动 Z字光栅路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验 ，接着用基于改进普里姆 (Prim)算法 的路径对其进 行加工，最后对加工得到光学试件表面的中频误差进行分析 ，从而验证基于改进 Prim算法的抛光路径的优 良性． 关键词 ：抛光路径；光学试件；中频误差 中图分类号 ：TH744．3 文献标志码 ：A 文章编号 ：0438—0479(2015)02—0281—05 精密 、超精密光学元件在航空、航天、国防以及 民 面均匀的气囊抛光实验 ，并对加工后得到试件表面的 用等领域 中得到了 日益广泛的应用，同时，对其加工 中频误差进行分析．第 2组实验采用单步进动 z字光 精度和表面质量也提 出了极高的要求[1]．传统 的抛光 栅路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验 ，接 方法在加工光学元件上存在一些明显的缺 点 ]，已不 着用基于改进普里姆 (Prim)算法 的路径对其进行加 能满足其加工精度方面 的要求 ，而气囊抛光作为一种 工 ，最后对加工得到光学试件表面的中频误差进行分 高效、高精度的抛光技术应运而生 ，它是 2O世纪 9O年 析，从而验证基于改进 Prim 算法 的抛光路径 的优 代 由伦敦光学实验室和 Zeeko公司合作开发 ，其采用 良性 ． 具有一定充气压力的球形气囊作为抛光工具 ，不仅可 以保证抛光头与被抛光工件表面吻合性好 ，而且可 以 1 气囊抛光实验 通过调节压力 ，控制抛光效率和被抛光工件 的表面质 量，是一种极具发展潜力的抛光方法． 气囊抛光作为一种新型的光学元件加工工艺 ，实 在国内，哈尔滨工业大学、浙江工业大学对气囊 际的抛光过程相当复杂，影响气囊抛光效率和表面质 抛光技术进行 了研究，并取得 了一定 的成果．但 目前 量的工艺参数很多，例如气囊 的下压量 、气囊的充气 对于气囊抛光技术的研究仍处于发展阶段 ，很多关键 压力 、主轴转速 、进给速度、抛光液浓度等．不 同的加 技术有待进一步深入研究．抛光轨迹作为抛光工艺规 工参数对气囊抛光后光学元件 的表面质量影响程度 划的重要 内容 ，将直接影响抛光效率和抛光质量．气 也不相同．同时抛光路径也对抛光效率和抛光质量产 囊抛光最主要 的抛光路径包括光栅路径和螺旋线路 生影响．本文对光学元件的气囊抛光技术进行 了实验 径 2种口]，但这 2种路径都会不 同程度地 引入 中高频 研究 ，实验装置为所在课题组 自行研制的气囊抛光样 误差 ，而 中频误差 的非线性增长最快 ，是对光束质量 机 ，如图 1所示．实验 中气囊抛光采用连续进动抛光 影响最大的区域[4]．近年来 ，研究人 员非常重视这一 的方式 ，即工件在抛光过程中，气囊 自转轴线始终与 问题 ，纷纷寻找消除中频误差的有效方法L5]．基于此 ， 工件上抛光点的局部法线呈一个 固定的角度 ]，其原 本文进行了 2组实验 ，第 1组实验采用单步进动 Z字 理如 图 2所示 ． 光栅路径和单步进动螺旋线路径对石英玻璃进行全