超精抛光中边缘效应对材料去除量的影响.pdfVIP

第 20卷第 10期 强 激 光 与 粒 子 束 Vo1．2O，NO．10 2008年 1O月 HIGH POW ER LASER AND PARTICLE BEAMS Oct．，2008 文章编号 ：2008)10—1653—05 超精抛光中边缘效应对材料去除量的影响 杨 炜 ， 郭隐彪 ， 许 乔。，李亚国。 (1．厦门大学 机电工程系 ，福建 厦门 361005； 2．成都精密光学工程研究中心 ，成都 610041) 摘 要： 传统环抛加工一般将工件整个包 围在抛光盘 内，加工之后虽然可以获得较好的工件表面，但是 需耗费较多的时间，生产效率较低。针对这种情况 ，借助 PPS快速抛光机床 ，依据 Preston公式，对露出抛光盘 的工件部分，即对所谓 的边缘效应进行研 究，用新的表面模 型表示非线性压强分布，合理地避开 了线性模型造 成的压强负值问题 。并且对工件材料去除量进行仿真计算 ，建立 了新 的去 除模 型 ，得 出了偏 心距 、工件半径和 抛光盘转速 比值对材料去除量 的影响 。根据此模 型，选择适 当的偏心距和转速比对工件进行加工 ，可获得较好 面型 。 关键词： 超精抛光 ； 边缘效应 ； 表面模型 ； 压强分布 ； 去除量 中图分类号 ： TG701 文献标 志码 ： A 平面抛光是超精密加工中的一道重要工序，是提高工件表面面型精度和表面光滑度的有效手段，而工件和 抛光磨盘接触区内各点瞬时压强的分布，是影响工件材料去除量的重要因素。实际加工过程中，精密磨削和研 磨阶段后的工件 (如用于做反射镜片的玻璃)需要经过抛光。这些工件本身就具有一定的不平度 ，需要在抛光 过程 中利用压强的非均匀分布来实现材料的非均匀去除 ，从而获得较好 的平面度 。目前国内外采用了两种加 工方法来研究压强的分布：一种是将工件整体包围在抛光盘中，如传统环抛 ，利用有限元分析法 ，对工件上不均 匀压强进行研究_l】】，但这种方法耗时长。效率低 ；另外一种是将工件部分露出抛光盘 ，即所谓 的边缘效应_4]， 利用工件在抛光过程 中由于力和力矩平衡造成压强分布不均匀的特点，从而实现工件各点的不均匀加工。 针对边缘效应 ，国内外学者研究了几种压强分布模型[4_5]，但都存在一定的局限性 ，其中典型的是工件和抛 光垫接触区压强分布线性模型 ，在分析过程 中发现工件某些部位会出现压强负值 ¨。因此 ，本文采用了一种表 面模型，以修正的抛物线形式表示压强分布，合理避开了出现负压强的问题，并且将其应用于计算工件材料的 去除量 。 l 边缘效应中的压强线性分布模型 在抛光过程 中，依据 Preston方程 (H—kpv)可知，材 ● 料的去除量与抛光系数 k，压强分布 P，工件相对抛光盘 的 1clrcular I：F 速度 有关 。其中抛光系数 k与抛光工艺参数有关 ，包括 … workpiece ularpolishingtool I O2 抛光粉粒度和硬度 ，抛光液 PH值和环境温度等。而对于 压强P，当工件部分露 出抛光盘 时，接触 区压 强分布不均 『 。． l 1． 尺 ．。 IR1 匀 ，产生边缘效应。图 1为工件部分露出抛光盘时示意图， 1’ r 分别在抛光盘和工件上建立坐标系 。0Y 和 。0。Y。，其中 F R为抛光盘半径 ，_R 为工件半径，偏心距 e为工件 中心到 Fig．1 Schematicofthecircularworkpiece 抛光盘中心距离 ，通过工件 中心施加外力 F。在研