全息存储用光致聚合物材料的暗增长现象研究.pdfVIP

第 37卷第 11期 光 子 学 报 Vo1．37No．11 2008年 11月 ACTA PHOTONICA SINICA November2008 全 存储用光致聚合物材料的暗增长现象研究* 张韬 ，陶世荃 ，翟千里 ，万玉红 ，王大勇 ，万晓君 ，施盟泉 ，吴飞鹏 (1北京工业大学 应用数理学院，北京 100022) (2中国科学院理化技术研究所 ，北京 100080) 摘 要 ：根据光致聚合物 中光栅形成机制，应用数学模型与实验相结合的方法，研究了一种新型光 致聚合物在全息记录中的暗增长现象．研究表明，应用不同写入光强使衍射效率达到相同的饱和程 度后 ，前期的写入光较弱则对应后期的暗增长程度较 强．为 了利用暗增长过程提 高衍射效率，设计 并实施 了非连续曝光实验，使曝光与暗增长过程交替进行．并且通过暗增长过程 的实验数据拟合 出 该材料的扩散时间常量为21S，据此设定非连续曝光的周期．结果表明，相 同记录条件下，非连续曝 光 比连续曝光可 以获得更高的衍射效率． 关键词 ：全息存储 ；光致聚合物；衍射效率；暗增长 中图分类号：0438．1 文献标识码：A 文章编号：1004—4213(2008)11—2227—4 0 引言 会消耗材料的有限动态范围．所 以如果材料存在较 强的暗增长 ，在复用记录时必须考虑此方面的影响． 光致聚合物是近年来发展起来的新一代光全息 已有的文献对光致聚合物暗增长的研究主要是 以 存储材料 ，在数据存储，全息光学器件和波导等领域 DuPont的材料为实验基础l6-9_，在对一些简单实验 都有所应用[1]．光致聚合物具有高感光灵敏度 、高 现象定性分析基础上 ，预期在全息记录中利用暗增 衍射效率、高分辨率、高信噪比等优点，并可完全干 长过程可 以提高衍射效率的饱和值f2]．本文将 以一 法处理及快速显影 ，产生的全息图像具有高的几何 种 自主研发的新型光致聚合物为研究对象，并辅以 保真度，并可长期保存 [4]．其优 良的性能和简单的制 数学模型作为理论指导 ，把定性分析与定量计算相 备工艺，使其具有更广泛的应用前景 ，被认为是最有 结合 ，研究了暗增长过程的产生 ，相关 因素的影响， 可能成为海量高速光学信息存储的材料． 以及对暗增长的控制和利用． 光致聚合物是通过光化学反应的原理来存储信 1 理论模型 息的．其主要成份包括单体、成膜树脂、引发剂和光 敏剂_5]．其基本聚合方式可分为 自由基聚合和 阳离 在 Piazzolla建立 的光致聚合物 中光栅形成 的 子聚合．本文所用材料为 自由基聚合型．其反应机理 一 阶扩散模型中r2]，得出了折射率调制度的解析式 ， 为 ：在相干光作用下引发材料中单体的非均匀聚合 ， 并在此基础上得 出暗增长的相关理论．由于材料与 形成单体的分布梯度 ，在分布梯度 的作用下单体从 该文献中所用材料 的成分和反应机理类似 ，所以本 “暗区”向 “明区”扩散 ，进而带来材料组份的重新分 文以此模型作为理论研究的基础．Piazzolla得出的 布，由于材料组份折射率的差别 ，最终形成折射率调 暗增长过程中折射率调制度 An(￡)随时间 t变化 的 制度．由于材料记录过程中单体扩散机制的存在，在 函数关系为 记录未达到饱和时结束曝光 ，单体 由于分布梯度 的 ． f rf——十