工艺条件对磁控溅射TiO-%2c2-薄膜结构与光催化特性的影响.pdfVIP

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2017-08-09 发布于安徽
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工艺条件对磁控溅射TiO-%2c2-薄膜结构与光催化特性的影响.pdf

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工艺条件对磁控溅射Ti02 薄膜结构和光催化特性的影响· 桑敏●刘发民王天民 (北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中。北京100083) TheEffectofPocessConditiomOR Structure the and Photocatalytic of Films PreparedMagnetron ActivityTi02Thin by Sputtering MinLiuFamin Tianmin Sang Wang of (CenterCondensedandMaterials Physics Physics，SchoolofScience。 of BeringUniversity ，摘要【作为新型环境净化材料，TiO：在污水处理、空气净化等方面有着广泛的应用。本文采用TiO：陶瓷靶及射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了一系列透明TiO。薄膜，研究了衬底温度和溅射功率对TiO：薄膜结构和光催化降解有机污染物特性的影响。利用x射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)对其结构进行了表征，得到了TiO：薄膜的相变规律。进一步利用分光光度计对其光催化降解罗丹明 B溶液的效率进行了测量，结果表明：随着衬底温度的升高和溅射功率的增加，降解率先增加后减小，在550。C和130W表现出最佳的光催化效果。) 关键词衬底温度溅射功率射频磁控溅射TiO：薄膜光催化降解特性 of films on AbstractAseries thin were radio t=ransperentTi02 pMparedgI∽substratesby frequency of films from Thestnletereafld thee magnetron pb。tDc8dy如船tivlties spuReringT／02ceramic蛐rgeL with films different andsubstrate werestudied．Thestructuresofthose power tempemtuLre spuUering have measured atomicforce their been withⅪraydi‰tometor(xRD)andmicroscope(AFM)，and statetransform wasobtained．Furthermore．the ofthe6lmsWits activity resmarpaRem photocatalytic