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第! 卷# 专辑# 稀# 有# 金# 属 = 年 月
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混合基含钪扩散阴极微观结构与性能研究!
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李莉莉,王金淑 ,赵# 雷,刘# 伟,王亦曼,周美玲
(北京工业大学材料科学与工程学院教育部先进功能材料重点实验室,北京 )
摘要:为了获得发射性能优异,均匀性良好的热电子发射阴极,本文采用液@液掺杂结合两步氢还原法制备出氧化钪掺杂钨
粉,并在此基础上通过压制、烧结和浸渍工艺制备出浸渍型扩散阴极。采用(2: 、电子发射测量装置和72( 对阴极微观结
构、发射性能和激活期间阴极表面活性元素的变化进行了研究。研究结果显示:阴极孔度合适,孔结构良好,孔分布均匀,
颗粒达到亚微米级。该阴极的发射测试结果显示在AB C D 时!EFG 为B 7 ·+H I 。分析认为阴极的亚微米结构有利于激活和
工作过程中活性物质的扩散和在表面的均匀分布,对阴极的发射起促进作用。
关键词:含钪扩散型阴极;液@液掺杂;亚微米结构;表面分析
中图分类号:4J=# # 文献标识码:7# # 文章编号:BA I KK= (= )I I B
# # 近 年来,随着现代电真空微波器件向着高 掺杂N 粉(其中(+ 4 质量百分比为!O (质量分
!
频率、大功率方向发展,对阴极的要求也越来越严 数))。所得掺杂钨粉经压制、烧结工艺制得孔度约
格[ L J ]。含钪扩散型阴极由于具有优异的热电子发 =O (排水法测得开孔孔度)多孔钨基体,将基体
射性能,且工作温度比“: ”型阴极低 L B C D 在=B C 高温下浸渍活性物质“J ”铝酸盐(PQ4
(亮度温度),因此被认为是唯一能够能达到高功 R /Q4R 7 4! 的摩尔比为J R R ),再经后续水
率微波器件所要求电流密度的阴极[B L K ]。但是,含 洗、退火工艺得到混合基含钪扩散型阴极(以下简
钪扩散阴极也存在着发射不均匀,抗离子轰击性 称(! )。
能差的问题[K ]。研究表明,影响这些问题的根本原 利用0,;7/0,@!B1 型扫描电镜(,1/7 能谱
因是钪不能充分扩散到阴极表面从而形成表面发 仪)对阴极进行了微观形貌观察和能谱分析。在自
[A ]
射活性层 。本课题组前期工作从改善海绵体的 行设计的电子发射测量仪上对阴极的热电子发射
微观结构入手,采用溶胶凝胶法制备出了亚微米 能力进行了测试。利用S0,@BB 型俄歇电子能谱分
级氧化钪均匀掺杂钨粉,并通过合适的浸盐工艺, 析仪对阴极进行原位加热,研究阴极加热和激活
初步获得了性能较为优 良的钪钨基浸渍型阴 过程中活性物质的扩散和变化规律,测试的电子
极[M , ]。 枪高压为!’ T$ ,电子束流’ !7 ,分析室真空
本论文延续上述工作,从阴极的微观结构和 度不低于 U I = SQ 。在S0,@K 型高分辨扫描俄
表面层活性物质构成出发,具体探讨了亚微米结 歇电子能谱分析仪上对阴极表面微区的氧化钪分
构对于含钪扩散型阴极氧化钪的分布和发射均匀 布进行分析,测试的电子枪高压为 T$ ,能量分
性提高的作用。 辨率V O ,分析室真空度不低于B U I K SQ 。
# 实# 验 # 结果与讨论
将氧化钪以硝酸钪的形式引入到钨的前驱物 ’ # 阴极的微
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