过滤电弧抑制薄膜中颗粒机理的实验分析.pdfVIP

维普资讯 第 12卷 第 3期 材 料 科 学 与 工 艺 Vo1．12 Nn3 2004年 6月 MATERIALSSCIENCE TECHNOLOGY June，2004 过滤电弧抑制薄膜中颗粒机理的实验分析 李成明 ，孙晓军 ，张增毅 ，唐伟忠 ，吕反修 (1．北京科技大学 材料学院，北京 100083，E-mail：ehengmli@sina．com；2．中国科学院 兰州化学物理研究所 ， 甘肃 兰州 730000；3．河北省机电设备招标公司，河北 石家庄 050051) 摘 要：讨论利用直线型过滤电弧制备TiA1N薄膜中，过滤磁场作用于弧斑、靶中毒现象，电子和离子的回 流和叠加偏压等因素影响作用的大小进行了实验分析．结果表 明，磁场对弧斑分裂和弧斑运动速度的综合 作用最为显著是 由于直线型过滤电弧形成的瓶颈磁场造成的电子和离子的回流，以及直流叠加脉冲偏压形 成的放 电空间的等离子体磁撞，分解和离化的所起的共同作用的结果．这对于控制电弧离子镀沉积薄膜 中 的颗粒尺寸和颗粒密度，指定合理的工艺参数有一定的指导作用． 关键词 ：过滤电弧；沉积；磁场 中图分类号 ：TGI74．444；TGI72 文献标识码 ：A 文章编号：1005—0299(2004)03—0268—04 Theexperimentalanalysisofsuppressingmacroparticles in filmsbyfilteringarc LICheng—ming，SUNXiao-jun ，ZHANGZeng—yi，TANGWei—zhong，LUFan—xiu (1．SchoolofMaterialScienceandEngineering，UniversityofScienceandTechnologyBeijing，Beijing，100083，China， E—mail：chengmli@ sina．com；2．StateKeyLaboratoryofSolidLubrication，LanzhouInstituteofChemical physics， ChineseAcademyofSciences．Lanzhou730000China；3．HebeiMechanical＆ ElectronicEquipment TenderingCorporations，Shijiazhunag，050051，China) Abstract：Inthisstudythemechanism ofsuppressionand eliminationdropletsofvariousfactorsinlinemag— neticfilteringdeviceswasdiscussedinareplatingTiAINfilmsdeposition，includingeffectofmagneticonall2 spot，targettoxic，circumfluenceofelectronandionandoverlappingbias．Theactingcontentsofseveralfac— totswereanalyzedbyexperimenta1．Itshowsthateffectsoffiltermagneticonsplitandmovementspeedofare spotaremostremarkable．Th isisextremelyusefulforcontrollingthe sizeanddensityofmacroparticlesin practicalproduction， Keywords：filteringarc；macroparticles；magnetic 电弧离子镀技术已经广泛应用生产中，为沉 管弧线型过滤电弧能够较好地减少大颗粒 ，但生 积更高质量的涂层，镀层