Ag-%2c2-O-SnO-%2c2-+MIS结构的制备及其气敏特性的研究.pdfVIP

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S1℃’99 HI S结构的制备及气敏特性研究 A920-Sn02 何秀丽+李建平高晓光王利戴圆瑞‘ 中国科学院电子学研究所传感技书国家重点实验室,北京100080 ‘吉林走学电子工程系,长春130023 摘要 ● NO及甲苯均不响应,表现出良好的H:S选择性。 一引言 管、MOS和MISFET结构等固态场效应气体传感器的研制。这些器件对气体的检测,是利 用吸附被测气体时器件的电学特性发生变化,主要表现在I—V特性的改变、平带电压的移动、 阂值电压以及漏电流的改变等。此类器件的基本结构为“金属”一绝缘体~半导体,应用不 同的催化金属栅(如Pd、Pt及其它资金属尸可对含氢气体进行检测,而采用选择性金属撮结 构或催化金属栅与气敏氧化层复合结构,则能检测非含氢气体。W.P,Kang等人最早提出 Pd-Sn0。MIS电容型氧传感器H翔,现已发展成为一种新型的气体传感器,其结构为催他金属 化功能及氧化物的气敏特性子一身.提高丁器件的性能。 二实验 0.SmmX0.8mm的Si抖4孔,用光刻剥离法 (1谂-a毋在其周围制作1000A框状pt膜作为 二报管的一个电极,去豫原有Si02,制各50A 厚的Si融作为二极管的界面阻挡层。背面 ? 蒸发5000hAl膜形成欧姆接触。SnO:膜是 r———]—Ag舢嘎 在气压为lPa的Af和02混合气氛(Ar:02兰二二==二曼b—s弛 毫 =7:3)中射频溅射SnO:靶制备,溅射功率 一—L—si 7.5W/era2,膜厚~lOOOA;在同样气氛中直 AI r———————————————:=L 流反应溅射Ag靶制备A920,压强为O.5Pa, 溅射功率O.6W,cm2,膜厚300h。敏感膜在 大气中400℃退火2小时。采用静态配气法 彗譬要叁戛生墨墨茎据采集的测试系统测试 鹰1.Mls结构原理示惠固…。1… 器件的气敏响应特性。 三结果及讨论 H2S气氛中 MIS器件在150℃的加热温度下,在空气以及4ppm 圈2给出了A920-Sn02 的I.V特性曲线,其偏压范围为.5V至+3V。反向偏压为5v时仍未击穿,正向开启电压很 小。可见器件表现出良好的二极管特性。当置于4ppmH2S气氛中时,正向曲线变陡,即同 一偏压下,电流相应增大。而通八H:S气体前后反向特性无变化。 童 8 善 ㈣。r 孽 嚣 ≥ 圉2器件在不同气氛中的I.V特性曲线 罔3不同偏

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