ALD氧化铝单层膜10nm激光损伤特性研究.pdfVIP

ALD氧化铝单层膜1064nm激光损伤特性研究 刘志超卫耀伟 成都精密光学工程研究中心，四川省成都市高新区科园一路3号，成都610041 一． 前言 在大型激光系统中，薄膜损伤阈值的高低直接制约了激光器向更高功率方 向发展。研制高抗激光损伤阈值薄膜成为薄膜界重点关注的问题之一。原子层 沉积(Atomic LayerDeposition，ALD)技术作为一项精确表面层制备技术，其 镀制膜层具有极薄厚度、高度均匀性和无针孔等特点。ALD技术在国内应用较 少，尤其是在高功率激光系统的光学元件镀膜方面尚未有应用先例。因此，开 展基于ALD技术镀制高激光损伤阈值膜层的基础研究工作显得尤为重要。 二． 研究内容与方法 首先对所镀制的ALD膜层进行透过率测试，然后利用原子力显微镜对ALD 膜层的粗糙度进行测量，最后在小口径激光损伤测试平台上分别以1．On．1和 S．on．1方式进行了激光损伤阈值的测量，根据测试结果分析了影响损伤阈值的 因素。采用Nomarski显微镜和AFM对损伤形貌进行了观测和分析，对损伤形 态和损伤产生的过程进行了讨论。 三． 研究结果与讨论 无论是熔石英还是BK7玻璃，采用ALD工艺镀制50nm厚的A1203膜层 在100℃时的损伤阈值最高，分别为11．8J／cm2和lO．12J／era2，均高于采用电子 束蒸发所镀制膜层的损伤阈值(10．81J／cm2和9．18J／era2)。对比同一基底不同 沉积温度下ALD损伤阈值，发现温度越低损伤阈值越高。在ALD反应中，高 温时(300℃．50012)易导致膜层结晶化，而低温则更容易使膜层以无定形形 式存在，从而减少了光线在膜层内由于晶界存在而形成的晶界散射效应，进而 降低了膜层的吸收，最终提高了膜层的抗激光损伤阈值。 对损伤区域进行了形貌上的分析。分析的结果发现ALD膜层损伤主要以热 效应引起的膜层剥落为主。在能量密度较低时，损伤大多数表现为单一的膜层 剥落。在损伤的中心区域可以看到有数个到数十个深度为80~100nm小坑，应 为热效应导致熔融d,-孑L的基片损伤。当激光能量密度较高时，损伤表现为膜层 剥落结合大量小坑：损伤中心区域比较平坦，存有残留的小坑。损伤扩展区域， 表现为熔融状态，存在大量小坑积聚，起伏无规则。在损伤斑的四周，存有大 量离散的小坑，其深度在50～120nm之间。可见损伤最先发生于膜层与基片界 面处，大量的吸收源导致了热应力作用使得膜层剥落，剥落后的区域残留了少 量小坑；而损伤斑的四周小坑则是能量较小时产生的热融小坑。