不同设计参数MOS器件射线总剂量效应.pdfVIP

不同设计参数MOS器件射线总剂量效应.pdf

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第 卷第 期 原 子 能 科 学 技 术 ! ! # $%’!(%’# ! 年 月 )**+ , -.%/012345 810431493:;413%% 84’)**+ ! 67 67 = 不同设计参数 器件的 射线总剂量效应 HK. ! ) 李冬梅 皇甫丽英 王志华 勾秋静 ! ! ! 清华大学 电子工程系!北京 清华大学 微电子学研究所!北京 # B ***]! )B ***]! ! ! ! ! ! 摘要 采用非加固工艺 通过设计加固手段实现具有辐射容忍性能的器件 可使器件抗辐射加固成本大 为降低 本工作研究商用标准 体硅 工艺下不同设计参数的 晶体管的 射线总剂 $ *BI / @DG8 DG8 # 量辐照特性$ ! , # 通过对 器件在不同偏置情况下的总剂量辐照实验 分别对比了不同宽长比 L Q DG8 (DG8管和 bDG8管的总剂量辐照特性$研究表明!总剂量辐照引起阈值电压的漂移量对 (DG8及 管的 均不敏感 总剂量辐照引起亚阈区漏电流的增加随 管 的减小而增加 研 bDG8 , (DG8 , $ L Q L Q 究结果可为抗辐射 集成电路设计中晶体管参数的选择提供参考$ @DG8 关键词 晶体管 宽长比 辐射效应 总剂量 ! DG8 中图分类号! 文献标识码! 文章编号! # ;(]I’ - ***HI,)**+*#H*#))H*# ! ! ! ! ! ! GL0’+0*+,?*0@E6/A--/)*6-E+--/%/,*.+M/’HK.E/N+)/6 ! ) ! ! ! LMf%3 H/40 ?R-(K‘R L0H03 N-(K J0HP9 KGR

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