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铁、铜颗粒膜输运性质与温度关系研究
汪壮兵葛洪良沙健焦正宽
杭州市浙江大学物理系低温组 邮编310027
摘要
本文介绍了:辟}硭控溅射方法制备非晶铁铜颗粒膜,井首次在非晶纳米颗粒膜中发aT较太的负阻温特
性。而且随着实验条件的变化有着负阻温特性向正阻瀣特性转变过程,结合非晶卷曲zi删m理沦给出
了一定的定性解释.
一、实验方法
实验采用rf磁控溅射方法将铁、铜溅射沉积到玻璃衬底上得到Fc,cu。一滞粒膜.溅射靶
x20mm.铁.铜纯度分别为
是由中8l的圆铁片上镶嵌若干片铜片制成.铜片尺寸为2
x
9999%和99.999%.溅射前先预溅射lo分钟,得到稳定的溅射状态.溅射时,在510‘帕
背景真空度下,通人高纯Ar气,纯度为99999%,并使Ar气压稳定在0.2帕,溅射功率稳定
在30W,溅射速率约为12矗/S.膜的沉积厚度通过溅射时问的长短来控制,分别称为“
比通过改变靶上铜片的镶嵌敬量来控制,井通过能谱分析计算得出铁铜原子比,表示为“
FexCu“”.阻温特性的测量采用四引线方法,测量电流为30uA.
二、实验结果与讨论
和电阻,Tt、Rt分别是最低温时温度和电阻,下面a定义相同).随着溅射时间的加长,电
阻越来越小,阻温变化也逐渐减小.5min的膜较厚,3600埃,阻温特性发生转变,温度系
数由负变正,阻温变化非常显著.affil36×101k-。,这比一般的10。k。高出一个数量级”’.
从图中还可看出电阻、温度基本呈线性关系变化.
x10…K减小为
射时间相同的情况下,随着铜的含量增力Il,温度系数由Feo“cIloM的一2.67
x
Feo“C啪%的一1.28
从图2还可看出,随着铜含量增加,+电阻太幅度下降.
对我们的膜作了x光衍射分析,发现膜的结构是非晶态.下面根批非品态的一些理论
费米能级EF所对应的波矢.口(q)为结构因子,反映原子系综散射入射波的能力,可以直接
由X射线衍射实验测出,其第一峰值相应的位置常用q。表示.随着温度,}高,结构因子的第
一主峰减弱和宽化,当2KF=qp(或相当)时。将导致负阻温特性”1.艇沦计算表明”3“,在
高,低温区lp}与温度分别成线性,二次方荧系变化.而正.负取决于2Kv相对qp的大小.
铜的含量对阻温特性的影响可以认为主要是由于铁铜)d电子数4:M.在铜含量较少”寸
48
不同对膜厚也有一定影响.根据我们的测量,铁靶上镶嵌八片铜比镶嵌四片铜时溅射速率
要大I埃/秒.但是这个差别相对溅射速率为12埃,秒来说,在溅射时间相同时,膜厚的影
响是次要的,铜的含量影响是主要的.膜厚对阻温特性的影响可能是随着膜厚的增加,膜
的致密度得到提高,原子致密度n=N,v变大(N、v分别是原子总数和体积).由于Kr
n“。,故对同样的F‰HQlⅫ样品,虽然铁铜含量比例未变,但2KF值在随着膜厚而增大,
这就有可能使最初的2KF“qp逐渐偏离qp,由最初较大的负温度系数逐渐变小,直至正温
度系数.
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图l:Feo.sACuoj6的R-T与膜厚关系 圉2:3minFexCul.x膜SR-T曲线
值得一提的是:在我们的测量温度范围内,未发现铁铜颗粒膜中存在近藤效应
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