纳米晶微波铁氧体材料的低温合成技术的研究.pdfVIP

纳米晶微波铁氧体材料的低温 合成技术研究。 张怀武刘颖力 钟智勇 王豪才 工作单位：电子科技大学信息材料工程学院17系 通信地址：成都市建设北路二段四号邮编：610054 摘要：随着微波元器件技术向集成化发展，铁氧体薄膜材料的低温合成变的越来越引起人们的极大关注． 本文首先从理论上对镍锌铁氧体低温成膜机理进行了研究；其次给出用溶胶—禚胶法制各出NiZn铁氧体 薄膜，进行x—射线分析．确定其晶体结构的方法；最后对测定的薄膜磁性能，薄膜环形器进行设计分析． 啊 1前言 自1988年以来，一系列铁氧体镀膜技术被应用，以满足微波技术对集成化的要求。 把各类铁氧体材料在低温下镀制在砷化镓，塑料，微晶玻璃，无机玻璃等基片上成为近期 研究的热点【I21。这类材料和器件在电子工业中已得到极大的应用，特别在微波．毫米波单片 集成电路中有着广阔的前景。例如，以GaAs或玻璃为基片制成环形器和相移器，还包括 把磁能贮存在柔性和非柔性介质中的铁氧体薄膜。美国．日本和俄罗斯在雷达与通信系统己 应用尖晶石铁氧体薄膜和石榴石铁氧体薄膜开发出微波．毫米波单片集成电路【jj。他们采用 一系列方法来制备尖晶石薄膜：如真空蒸发镀膜，溅射镀膜，化学气相沉淀，粘贴法等．但 这些方法都需要在高温下制各，通过高温和随后的各种热处理方法使制各在基片上的薄膜 晶化成尖晶石结构，往往会损坏硅器件，特别在制备单片集成微波器件时。为了避免在高 温下元器件的损坏，我们采用玻璃为基片。利用溶胶—凝胶工艺在低温(温度小于180。C) 下制成NiZn铁氧体薄膜。该方法利用离心甩胶制成薄膜，薄膜与基片表面间具有良好的附 着力，同时也避免了成膜后所要进行的各种热处理(如退火等)。薄膜晶体结构也是完整 的尖晶石，性能与在高温下制各的薄膜具有相同的优良特性。故此，清楚了解溶液的金属 离子浓度．基片温度崖片类型和成薄之前的基片处理，理解薄膜的磁结构与化学特性，把薄 膜的工艺和薄膜的磁特性，化学特性与微结构相联系，从微观上对薄膜进行讨论是完全必 要的。 2低温纳米晶铁氧体薄膜合成机理 I．NiZn铁氧体结构 ～个尖晶石单胞，实际上有8个A位和16个B位被金属离子填充。称为A次晶格和 B次晶格。一般结构为： ·国家自然科学基金资助 I了 (M2+)[Fe23lod A B 如果M”离子不是填充A位，而是同B位中8个别Fe”离子位置对调，这样则形成“ 反”型尖晶石铁氧体： (Fe’)[M2+Fe”]o． 大多荦情况NiZn铁氧体是以”混合型”铁氧体结构存在的。其充填A位的金属离子为．． Fea．Zn”，B位离子是NrFe”。 II． (Zn2+Fe3+)[Ni2+Fe3+]0． Ⅱ．形成机理 从NiZn铁氧体分子式和结构看，实现铁氧体薄膜低温合成可通过分离金属离子和使 金属离子氧化而完成。反应方程为： (I)．水溶液 NiCi 2十比U斗H1’+HCl ZnCl2+H20_Zn”+HCI FeCl2十H20．-oFe”十HCl (z)．衬底表面 ，I“1 H20—÷H’+OH。 H++e_mT 02—2e-+O、‘ (3)．合成薄膜 Ni2++Zn“*Fe”+MN02-+NiO．ZnO．Fe(oH)3 一(zn2+。Fe”。)[Ni”。Fe“。]O．