电蚀抛光CVD金刚石膜的实验研究.pdfVIP

， 维普资讯 6 · 《金刚石与磨料磨具I程》 每 ，7I_I1L}I’ LfI， 510090 广东工业大学 郭钟宁 王成勇J匡同春 王晓初 黄志刚 ， ·— --— —— — —- ～ ．— —— — ·- —— —． ． 摘要 本文提 出了一种新的 CVD金刖石膜抛光技 术。采用该项技 术，可以高效率的完成 CVD金 刖石膜的 粗抛光 CVD金刖石膜表面被预先潦覆一层导电金属 ．然詹采用 电蚀方法对该表面进行加 I，使金刖石膜突起 的是峰被迅速去除。加工中金刚石表面的石墨化使电蚀加 I得以不断延续。通过单脉冲放电试验 已经发现涂覆 层的材料对金刚石膜 的加 I效果有很大影响。与普通金属加工相比，金刚石膜的电蚀过程有其完全不同的特征。 通过试验和分析．本文还对金刚石膜的电蚀去除机理进行 了初步探讨 词 竺 c … 的 正在一 进… 的金 刚石膜抛光方法有多种。(I)机械抛光方法。金刚石 金刚石不仅是具有最高硬度和耐磨性的工程结构 膜 的机械式抛光一般采用的是传统研磨或磨 削方法， 材料．而且还是集 良好 的绝缘特性、导热特性 、光学特 磨削工具大都使用金刚石砂轮或金刚石研磨粉，它可 性 、化学稳定性和掺杂诱导半导体特性等优异特性为 以用于金刚石膜的粗、中、精抛光 。由于被加工材料 一 体的功能材料，在当今高技术领域具有十分广阔的 的特殊性．这种传统加工方法往往效率很低，且微观表 应用前景。 面质量不好 ，易产生微裂纹。(2)化学抛光方法。纯化 80年代以来 ，低压化学气相沉积 (CVD)金刚石薄 学抛光方法主要利用某些化学活性很强 的金属如镧 膜技术得到迅速发展。研究开发 了诸如灯丝热解 (La)，铈 (ce)等在一定 的工艺条件下(如温度 ．环境气 CVD法、微波等离子体 CVD法、直流等离子体喷射 体等)使金刚石膜表面产生化学反应，从而将金刚石膜 CVD法和燃焰法等众多台成方法。根据不 同的沉积 表面粗糙部分融蚀 。化学抛光的效率要高于机械 方法和沉积条件可得到 1～980gm／h的沉积速度 、厚度 抛光 ，在 94O℃温度下反应 2．5小时可将 Ra=12~tm的 在0．5 1O00~m．的薄(厚)膜 ，可沉积直径达 300ram的 粗糙表面降至 Ra=1．6m。(3)化学机械抛光方法。 大面积膜．为金刚石膜 的扩大应用奠定 了基础 。在硬 在900~C左右 、一定 的气氛条件下，将金属板 (铁等)和 质台金或陶瓷基体上沉积金刚石薄膜的涂层刀具 (刀 金刚石膜对磨 ．进行无损伤的高表面质量抛光，所需时 片、麻花钻、立铣刀等)、或用厚膜焊接在基体上制成的 间为数小时(精加工)或数十小时(粗加工)”。(4)离 刀具、高保真扬声器中使用的金刚石涂层或纯金刚石 子束加工。采用离子束进行粗精抛光 ，加工质量好，可 膜振动膜、用金刚石薄膜制成的X光机 的光学窗12I等 实现大直径 和局部原子级抛光 (舶 =I．9nm)】．但 C．VD金刚石制品，在一些工业发达 国家的公司形成了 加工效率偏低。(5)激光束蚀刻。采用激光束加工使 一 定的生产能力。我国的金