TFT-LCD光刻工艺掩膜板耐Particle与研究.pdfVIP

TFT-LCD光刻工艺掩膜板耐Particle研究 董云郭慧鹏闵泰烨李文锋田露夏子祺彭志龙 (北京京东方光电科技有限公司，北京i00176) 摘要：在TFT—LCD生产过程中，重复性缺陷是光刻工艺中最常出现的一类不良，它的特点是不良在显示屏上位置固定，重复出现的规律性明显。在对该不 良多年的跟踪研究过程中发现，个别尺寸产品在生产中发生概率较为频繁；本文首先介绍了光刻工艺和掩膜枫Mask)白勺构造，之后使用CanonMPA7800 Particle性能指标的数值关系 关键词：重复性缺陷掩膜板曝光剂量耐ParticleTFT—LCD on Mask toleranceofTFTLCDs Study particle Photo process defectisakindof most in Repeating failure ofTFT—LCD is frequentlyoccurringphotolithographyprocess industry．It characterizedfixed onthe itisknownthatthe ofsome by positionpanel，clearregularity repeated．And occurringfrequency is than of productshigher describesthe and others，accordingonmanyyearsfollow—upstudy．Thispaper lithographyprocess mask hasa structure，and onthe deeplyanalysisparticle-resistant CanonMPA7800 performanceusing Exposure．Finally doseisthefactorforthe exposure the betweenthemis particle-resistantperformance，and calculated． relationship 1引言 通常掩膜板(Mask)白勺结构如图2—1所示，由石英玻璃，Cr涂层，保护 在TFT—LCD以及半导体行业中，光刻工艺是阵列制程中非常重要的膜，滤孔等几部分组成。其中，石英玻璃为主要载体，在其表面有镀有Cr涂 一步，它是指：将涂覆完感光月封即PR胶)白勺玻璃基板，放入掩模曝光机 层，即形成TFT所需的电路图案；同时，为保护Cr涂层不受环境中各种 (5．5G工厂一般使用Canon MPA7800系列)，设备内光源产生的紫外光通过 气体影响，在其表面制作有一层保护膜；为了保持膜内膜外气压相同，还 掩模枫Mask隋选择性的通过并照