积法制备纳米晶镀层的关键技术及应用.pdfVIP

第3期 屠振密教授谈电沉积法制备纳米品镀层的关键技术及应用 67 ·专家访谈· 屠振密教授谈电沉积法制备纳米晶镀层的关键技术及应用 电沉积法是制备纳米晶镀层的重要途径之一，受到人们的极大关注，已成为当前材料表面科学研究 的一个新领域。为了促进这一研究领域的发展，本刊记者于2009年4月2日采访了哈尔滨工业大学屠振 密教授。 记者：请屠教授介绍一下电沉积法制备纳米晶镀层的优势。 屠振密：制备纳米材料方法有：①气相法，如物理或化学气相沉积、惰性气体凝聚等；②液相法， 如快速同化、雾化等；③同相法，如机械研磨、非晶态初始晶化等；④化学法，如溶胶、凝胶法、沉积 法等；⑤电化学法，如电沉积法、复合电沉积法等。 电沉积法制备纳米晶镀层的主要优点是： (1)电沉积法适合于制备纯金属纳米晶膜、合金膜及复合材料膜等各种类型膜层； (2)电沉积的过电势是主要推动力，电沉积过程容易实现、工艺灵活、易转化； (3)通过控制电沉积参数，就町精确地控制膜层的厚度、化学组分、晶粒组织、晶粒大小和扎隙率等； (4)电沉积易使沉积原子在单晶基质上外延生长，易得到较好的外延生长层； (5)电沉积法可在常温、常压下操作，节约能源，避免了高温引入的热应力； (6)电沉积纳米层具有独特的高密度和低孔隙率； (7)生产效率较高，初始投资低，经济效益好。 总之，电沉积法制备纳米晶镀层不仅工艺简单、操作方便、价格便宜，并可在大小不同和形状各异的 基体上得到电沉积层。 记者：请屠教授向读者提示电沉积法制备纳米晶镀层关键的共性问题。 屠振密：电沉积过程的关键步骤是新晶核的生成和晶体的成长，这两个步骤的竞争直接影响到镀层 中生成品粒的大小。从原理上讲，高的晶核生成速率和低的晶粒长大速度，有利于减小镀层的品粒尺寸， 从而得到纳米晶的材料。 利用直流电沉积时，高的阴极过电势、高的吸附原子总数和低的吸附原子表面迁移率是大量形核和 减少晶粒生长的必要条件。也是生成纳米晶的重要因素。通常为了得到电沉积的纳米晶，常采用适当高 的电流密度，提高电极上的过电势，使形核的驱动力增加，沉积层的品粒尺寸减小。在溶液中加入的添 加剂分子吸附在沉积表面的活性部位，一方面可降低晶体的生长；一方面可抑制析出原子，较少地到达 生长点，从而优先形成新晶核。 利用脉冲电沉积时，当给一个脉冲电流后，阴极．溶液界面处消耗的沉积离子可在脉冲间隔内得到补 充，从而可采用较高的峰值电流密度，得到的晶粒尺寸比直流电沉积的小。此外，采用脉冲电流时由于 脉冲间隔的存在，使增长的晶体受到阻碍，减少了外延生长，生长趋势也发生改变，从而不易成为粗大 的晶体。因此，目前多采用脉冲电沉积法制备纳米晶。 利用喷射电沉积法时增加电解液与阴极的相对流速，可保证阴极一溶液界面处的沉积离子能得到及 时的补充，能有效地提高电沉积极限扩散电流密度和沉积速率，从而细化镀层的晶粒。将脉冲技术引入 喷射电沉积中，利用脉冲喷射电沉积法，可以比较容易得到纳米晶材料。 利用纳米复合电沉积法时，由于纳米微粒与基质金属共沉积过程中，纳米微粒可作为增加非自发形 核的晶核，使基质金属的晶粒大为细化，从而得到纳米晶镀层。电刷镀复合电沉积具有镀液浓度高、阴 阳间距小、可相对运动和允许使用较高电流密度的特点，优化了结晶过程，限制了生成粗晶和粒状结晶 的可能，因而镀层晶粒尺寸更小。 万方数据 68 中国表面工程 2009年 利用超声能够加速和控制电沉积过程中的化学反应，提高反应率、改变反应途径，改善反应条件以 及引发新的化学反应。在超声场作用下，局部的高能量加大了单位体积能垦的起伏，使成核能大大增加， 瞬间可生成大量的晶核。在晶核的生长期，超声空化可有效控制晶核的长大。当气泡移动到颗粒表面上， 引起反应液显微涡动，消除了电解液局部浓度不均，从而控制晶核长大。超声振动及产生的射流能使电 沉积在阴极表面上的部分金属脱离阴极表面，并随溶液的流动分散到整个溶液中，防止晶粒长大。 记者：请屠教授讲讲电沉积法制备纳米材料的应用及发展。 屠振密：电沉积纳米材料以其独特的优势将广泛应用于各行各业，特别对提高产品质量，使产品微型 化、轻量化、多功能化、精细化和环保化，将起重要作用。 (1)化工方面的应用 催化是纳米超微粒子应用的重要领域之