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                光电工程
                    
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第33卷第 11期                          光电工程                               Vo1.33,No.11 
2006年 l1月                      Opto—ElectronicEngineering               Nov,2006 
文章编号:1003—501X(2006)11一O142—03 
       高反膜的计算机模拟及对实践的指导意义 
                      舒雄文,田增霞,徐 晨,沈光地 
        (北京工业大学 电子信息与控制工程学院,北京市光电子技术实验室,北京 l00022) 
   摘要:本文利用计算机对多层介质高反膜反射谱的模拟发现,当构成高反膜系的高、低两种折射 
   率材料的光学厚度不一致时,反射带两侧的第一个谷值的大小将不同,据此作者认为在高反膜镀 
   制时可根据反射带两侧第一个谷值大小情况来调节高反膜中单层膜厚度,实验结果证明了模拟结 
    果的正确性,同时也确证了作者提出的这种方法是可行的。 
    关键词:高反膜;四分之一波长;光学厚度;物理厚度 
    中图分类号:TB8,TN248.4              文献标识码:A 
              Computersimulationofhigh—reflectionfilmsandits 
                             applicationtopractice 
                SHUXiong-wen,TIANZeng-xia,XUChen,SHEN Guang-di 
     (SchoolofElectronicInformationControlEngineering,BeOingUniversffyofTechnology,BeUmg 
                 Opto—electronicTechnoloyg Laboratory,Beijing:100022,Ch/na) 
   Abstract:Anovelmethodofadjustingthethicknessofthesinglelayerofhighandlowindexmaterials 
    wasputforwardaccordingtothecomputersimulation,whichshowthatthevaluesofthevalleysnearest 
   tothereflectionbandweredifferentwhentheopticalthicknessesofthehighandlow indexmaterials 
    were different,The experimentresultsverified thevalidity ofthe simulation and confirmed the 
   feasibilityofthemethod. 
   Keywords:High-reflectionfilms;Onequarterwavelength;Opticalthickness;Physicalthickness 
 引 言 
    随着通讯技术的飞速发展,高反膜的应用越来越广泛。通常的高反膜均采用四分之一波长规整膜系设 
计,但是在一些应用中为了调节高反膜中的驻波场,以减小吸收,往往进行非规整四分之一波长膜系设计, 
即单层高、低折射率膜层各自的光学厚度均不等于四分之一波长,但是它们的光学厚度之和等于二分之一 
波长 ’厶川,也就是说一层膜的光学厚度要大于四分之一波长,而另一层膜的光学厚度要小于四分之一波长。 
利用光学监控法来控制膜厚以达到这种要求并不难,但是光学监控法相对较为复杂,而且配备光学监控装 
置的设备也比较昂贵,很多研究工作者并不具备这种条件。而用得较多的晶振监控法,由于监控的是膜层 
的物理厚度,效果并不十分理想,在镀高反膜前往往要先对用作高反膜的膜材料分别进行较多的单项实验, 
一 些设备甚至连晶振监控都不具备,要想镀出符合要求的高反膜就更加困难。本文根据计算机模拟结果及 
作者的实验结果提出了一种非常简单、经济的方法以判断所镀高反膜是否符合需要,从而指导镀膜实践。 
这种方法对利用晶振监控或连晶振监控都不具备的情况下的实践有很强的指导意义。 
   收稿 日期:2006—04-0Il收到修改稿 日期:2006
                
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