193nm氟化物增透膜的特性.pdfVIP

第 23卷第 3期 强 激 光 与 粒 子 束 Vo1．23，NO．3 ‘2011年 3月 HIGH POW ER LASER AND PARTICLE BEAMS M ar．。2011 文章编号 ： 1001—4322(2011)03—0675—06 193nm氟化物增透膜的特性 薛春荣 。， 易 葵 ， 邵建达。 (1．常熟理工学院 江苏新型功能材料实验室 ，江苏 常熟 215500； 2．中国科学 院 上海光学精密机械研究所 ，上海 201800) 摘 要 ： 为了研制低损耗、高性能的193nm氟化物增透膜 ，研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物 增透膜的影响 。在熔石英基底上 ，将挡板法和预镀层技术相结合 ，采用热舟蒸发方式制备 了不 同氟化物材料组 合增透膜 ，对增透膜 的剩余反射率和光学损耗等光学特性 ，以及表面粗糙度和应力等特性进行 了测量和 比较 。 在分析 比较和优化 的基础上 ，设计制备的3层 1／4波长规整膜系A1F ／LaF。增透膜在 193nm 的剩余反射率低 于 0．14 ，单面镀膜增透膜 的透射率为 93．85 ，增透膜表面均方根粗糙度为 0．979nm，总 的损耗约为 6 。 要得 到高性能的 193nm增透膜 ，应选用超级抛光基底 。 关键词 ： 氟化物薄膜 ； 193nm增透膜 ； 预镀层 ； 基底 ； 剩余反射率 中图分类号 ： O484．4 文献标志码 ： A doi：10．3788／HPLP0675 增透膜可增加光学元件的光强透过率 ，减小其表面的剩余反射 ，提高成像系统 中像的衬度和质量 ，应用非 常广泛_l】j。高功率的全固态激光器系统 ，对增透膜的性能有特殊要求 ，不仅要求有足够低的剩余反射系数 ，还 要有足够高的激光损伤阈值 。鉴于氟化物材料在深紫外波段 比氧化物有更低的消光系数，本文在分析了 几种氟化物薄膜 的光学特性、应力 、表面粗糙度 、激光损伤阈值等性质及组合特性的基础上 ，采用 LaF。／A1F。材 料 ，制备出高性能的 193nm增透膜 ，并测量了它的剩余反射率 、透射率 、光学损耗等光学特性 ，讨论了影响 193 nm增透膜光学性能的重要因素。 1 193nm增透膜 的膜厚监控 准确控制薄膜 的厚度是制备光学薄膜 的关键 ，在波长小于 200nm 的真空紫外波段 ，由于材料 的吸收、散 射及这个波段对水吸收的敏感 ，常规光学监控方法很不精确 。解决的方案之一是封 闭并密封光路上的相关元 器件 ，在真空情况下进行监控。这需要对镀膜机进行大幅度的改造或者重新设计 ；另一个解决方案是在镀膜机 的真空室内使用挡板法来镀制真空紫外光学薄膜 。本文采用 1／3圆形挡板与预镀层技术相结合 ，以提高膜 厚的监控精度 。 以沉积在熔石英 JGS1基底上的 3层 1／4波长规整膜系增透膜为例 ，如果用实验室常用 的控制片基片 K9 直接监控 ，膜厚控制仪的走格很小 ，约为2格 ，如此小的走格很容易引起读数误差 。如果在 K9基底上预先镀 上一层高折射率材料 H(其折射率 =1．9)，用镀制了预镀层的控制片监控 ，走格大于 1O格。可见合适的预镀 层能够增大膜厚监控 曲线的走格，减小膜厚监控仪的读数误差 ，提高膜厚 的精度。 2 基底对增透膜性能的影响 增透膜的表面粗糙度和抗激光损伤阈值 (LIDT)直接受基底表面粗糙度的影响。软的氟化物单晶和硬的 无定形熔融石英的表面抛光质量会有很大的差异 ，剩余 的抛光痕迹会使基底 的表面粗糙度增加 ，增加散射损 耗 。对于超级抛光基底 ，膜本 身的结构影响超过 了基底。不 同基底上 的增透膜抗激光损伤能力相差较大 ， JGS1基底上的增透膜 阈值 明显高于K9基底上的增透膜 阈值 。图 1是两种基底上增透膜的破斑形貌。图 1 显示 ，不同基底增透膜的破斑均为散点形式，破斑 的直径均在 10 m 以下 ；无论破斑大小 ，破斑中心都有一个 小的吸收中心 ；使用轮廓仪测试得到破斑深度大于增透膜的厚度 。这些现象可以用吸收中心主导模型来解释： 膜基界面有很多吸收中心，吸收系数相对较大u 。当薄膜被激光辐照时，这些吸收中心将迅速达到很高的温 度。在这样