等离子体诊断用18.2nm Schwarzschild显微镜.pdfVIP

第 23卷第 3期 强 激 光 与 粒 子 束 Vo1．23，NO．3 2011年 3月 HIGH POW ER LASER AND PARTICLE BEAMS M ar．，2011 文章编号 ： i001—4322(2011)030647—05 等离子体诊断用 18．2amSchwarzschild显微镜 王 新 。， 穆宝忠 ， 黄 怡 。， 翟梓融 ， 伊圣振 ”， 蒋 励 ， 朱京涛 ，王 占山 。， 刘红杰。， 曹磊峰。， 谷渝秋。 (1．同济大学 物理系 ，精密光学工程技术研究所 ，上海 200092； 2．上海市特殊 人工微结构材料与技术重点实验室 ，上海 200092 3． f【J国工程物理研究院 激光聚变研究 {【】心 ，四JII绵 阳621900) 摘 要 ： 研制 了用于超快激光等离子体诊断的Schwarzschild型正入射显微镜 ，该显微镜工作波长为 18．2nrll，数值孔径为 0．1，放大倍数为 1o。根据诊断要求设计 了Schwarzschild物镜 的光学结构 ，计算 了物镜 的光学传递 函数 ，结果显示 ，设计 的物镜在 ±11Tim视场范围内像方空间分辨力可达 125lp／mm。根据系统工 作波长和光线在镜面的入射角度没计 了Mo／Si周期 多层膜反射镜 ，制作 了 Schwarzschild显微镜光学元件 ，镀 制 的膜系周期厚度为 9．509nrri，周期数为 3O，对 18．2rim波长的反射率约 31．1 。利用激光等离子体光源对 24lp／mm 网格进行了成像实验 ，实验结果表 明：系统在 中心视场 的分辨力为 31．tm，600,um 内视场 的分辨力为 5 ffm 。 关键词 ： Schwarzschild显微镜 ； 激光等离子体 ； Mo／Si多层膜 ； 空间分辨力 中图分类号 ： ()434．1 文献标 志码 ： A doi：10．3788／HPIP0647 随着光学基底加工技 术和多层膜 反射元件制备技术 的发展 ，工作在极紫外 和软 X射 线波段 的正入射 Schwarzschitd光学系统已应用在生物医学、极紫外投影光刻及等离子体诊断等领域 ’。。2O世纪 90年代 ，为 了研究超强激光与物质相互作用过程 中软 x射线辐射 的均匀性，美 国科学家在强激光装置 OMEGA上用 1 500J能量激光辐照金箔产生软x射线，利用 Schwarzschild显微镜对其进行了成像 ，在 1mm视场内获得了空 间分辨力小于 lO ITI的软 X射线图像 ]。中国科学院长春光学精密机械与物理研究所开展了工作在极紫外 波段的正入射 Schwarzschild显微镜方面的研究 ，实验室内获得 了20,／m 和 6,／m线宽的栅网图像 ，在 2007 年利用微缩结构的 Schwarzschild物镜在光刻胶上得到 了线宽 250nm 的图样 [1。正入射 Schwarzschild光学 系统主要向两个方向发展 ：其一是小视场 (小于 100 m)、高分辨力 (小于 100rim)，主要面 向生命科学和极紫 外光刻 ；其二是大视场 (约 1mm)、低分辨力 (1～5 m)，主要应用于激光等离子体诊断 。目前 ，国内正在开展 的超短超强激光等离子体诊断研究 ，迫切需要研制大视场 、高集光效率的极紫外成像诊断系统，为此 ，我们 研制了用于超快激光诊断的Schwarzschild型显微镜 。本文主要介绍了Schwarzschild成像显微镜的光学结构 设计、光学元件 的膜系结构设计和 Schwarzschild显微镜的极紫外光 (EUV)成像实验 ，并对实验结果进行 了分 析 。 1 Schwarzschild显微镜光学设计 Schwarzschild物镜是成像系统的核心部分，属于典型的正人射反射成像装置，由两块同心球面镜组成 (主 镜为凹面镜，副镜为凸面镜)，能消除三级球差、彗差和像散。。]，其光路结构如图 1所示 。两个反射镜 曲率半 径的比值 由显微镜放大率决定 ，物镜的光学结构可以根据系统放大率和物像间距计算得到，关系式为