沉淀法合成高比表面积超细SiO2.pdfVIP

维普资讯 第 12卷 第 3期 无 机 材 料 学 报 V0I-12．No．3 1997年 6月 JournalofInorg~mlcM aterials Jun．，1997 沉淀法合成高比表面积超细SiO； 丽 桦 嫦 愚 糸．~ ／g 13 摘 要 了 f 术玻璃和盐酸为原料，采用化学沉淀法制备出多孔型、高比表面积超细sIo：，用 BET XRD、SEM DTA-TGA等手段对其性能进行了表征，结果表明，所制得的多 孔蛩SiO2比表面积可达 lO00m ／g以上，孔分布均匀 (25嵯 右)．粒径小．具有许多特殊的 性能． 关键词沉淀法合成，高比表面积．多孔型，sio：=氟孔j亳