氮气氛下金刚石薄膜生长过程中的光发射谱研究.pdfVIP

维普资讯 第 l6卷 第 l期 无 机 材 料 学 报 Vo】 16 No l 2001年 1月 JournalofInorganicM ateria]s Jan ，200l 文章编号：1000—324X(2001)01—0081—06 氮气氛下金刚石薄膜生长过程 中的光发射谱研究 李灿华 ，廖 源 。，常 超 。，王冠 中 1,2，马玉蓉 。，方容川 。 (1．中国科技大学结构分析开放研究实验室 }2 中国科技大学物理 系，合肥 230026) 摘 要 ：利用原位光发射谱对衬底附近的化学气相性质进行 了研究．研究表 明，氮气的弓人『 使得金刚石生长的气相化学和表面化学性质发生 了很大变化 含氮基 团的萃取作用提高丁金刚 石表面氧原子的脱附速率 ．从而提高 了金刚石膜的生长速率．而含氮基 团的选择吸附使金刚石 (i00)取 向变得化学糙化 这种化学糙化使得 (100)晶面生长速率远大于其它 晶面 ．最终使金 剐石薄膜呈现 (100)织构．还利用化学气相沉积方法研究了氮气浓度对金刚石生长的影响．结 果与光发射谱分析是一致的 ．