化学溶液沉积制备钼酸锶多晶薄膜中工艺参数影响的研究.pdfVIP

助 锨 曹孝 料 化学溶液沉积制备钼酸锶多晶薄膜中工艺参数影响的研究。 刘 洋，余 萍，肖定全，田云飞，刘 旭，李园利 (四川大学材料科学与工程学院材料科学系，四川成都610064) 摘要： 采用化学溶液沉积技术，在单晶硅衬底上制 所以研究发光薄膜的制备工艺，探索最佳的工艺条件， 备了钼酸锶多晶薄膜；利用XRD和SEM分析了薄膜对改善薄膜质量以获得优异发光性能极其重要。本文 的晶相和形貌；系统研究了化学溶液沉积制备钼酸锶 选用廉价无机盐替代通常溶胶一凝胶技术中用的有机 多晶薄膜中的工艺参数，包括化学溶液的组成(醇、酸 醇盐，采用化学溶液沉积制备了钼酸锶薄膜，系统研究 的含量)、溶液浓度、热处理工艺以及采用不同的锶盐 了工艺参数，包括化学溶液的组成(醇、酸的含量)、溶 等，对钼酸锶薄膜生长的影响。研究结果表明，采用化 液浓度、热处理工艺以及采用不同的锶盐等，对钼酸锶 学溶液沉积技术制备的钼酸锶多晶薄膜均具有单一的 薄膜生长的影响。 四方相结构；除溶液中的醇含量之外，所讨论的工艺参 数对薄膜的相结构、形貌、显露晶面等均会带来一定的 2 实验过程 影响；优化工艺参数、控制工艺规范对于获得结构致 密、晶粒发育良好的钼酸锶薄膜是非常重要的。 关键词： 化学溶液沉积技术；钼酸锶；薄膜；工艺参 料，采用乙二醇和冰乙酸为溶剂，按钼离子和锶离子的 数：晶相 原子百分比为1：1，分别将碳酸锶[或者硝酸锶(Sr 中图分类号：0484．1；TB34文献标识码：A (NO。)：)]和钼酸铵溶解在乙二醇溶剂中，使之形成透 文章编号：1001—9731(2010)11-1932—04 明、均相的溶液；在室温条件下，将上述两种溶液混合、 l 引 言 搅拌约30min，便得到了稳定、透明的钼酸锶溶液。采 用旋涂技术将钼酸锶溶液旋涂到单晶硅衬底上，然后 白钨矿结构的钼酸锶(SrM004)为四方晶系，属于 进行烘干。旋涂1层烘干1次，旋涂若干次之后，再将 白激活荧光体，即无需向其中再添加任何激活剂便可 薄膜进行热处理，每次热处理的层数根据研究需要确 在紫外线、阴极射线、X射线等的激发下发出绿光，其 定；重复以上旋涂一烘干一热处理过程若干次，即可得 发光起源于(M00；一)阴离子基团内部的电子跃 到具有一定厚度的钼酸锶多晶薄膜。 迁[1’2]。因其结构和发光性能，钼酸锶在发光[1’3]、固体 SYSTEMVersion 采用中国丹东Y-4Q 3．0型X 激光[4’5]、闪烁应用[6,73、紫外成像[8]、隧道磁致电阻设 射线衍射仪对样品进行物相分析，利用日本JSM5900 备[9’1们等方面，都有着潜在的广阔应用。 型扫描电子显微镜观察样品表面形貌。 利用传统的材料制备方法难以得到符合化学计量 比的、晶化的钼酸锶薄膜，究其原因是，采用传统制备 3实验结果与讨论 方法制备钼酸锶薄膜需经过高温处理才能使薄膜晶 化，而在高温处理过程中MoO。极易受热挥发，从而在 3．1溶液组成的影响 薄膜中产生大量缺陷，使得人们很难获得高质量的薄