NaF薄膜的脉冲激光沉积法制备和结构研究.pdfVIP

! 第# 卷! 第$ 期 强 激 光 与 粒 子 束 %’( # ，)( $! ! *++, 年$ 月 -./- 01234 56734 6)8 0649.:53 ;367 6=( ，*++,! 文章编号：! ++?$@**（*++, ）+$?+A@@?+B !# 薄膜的脉冲激光沉积法制备与结构研究! ，* ，@ ，@ * 詹勇军 ，! 吴卫东 ，! 王! 锋 ，! 白! 黎 ，! 唐永建 ，! 谌家军 （$ 中国工程物理研究院激光聚变研究中心，四川 绵阳A*#++ ；! *$ 西华师范大学 物理与电子信息学院，四川 南充A@,++* ； @$ 四川大学 原子与分子物理研究所，成都A++AB ） ! ! 摘! 要：! 采用脉冲激光沉积（058 ）方法在7C（++ ）衬底上制备了)DE 薄膜。在激光重复频率* -F ，能量 密度@ GH IJ* ，本底真空度B K + L B 0D 的条件下，研究衬底温度对薄膜沉积速率及结构的影响。台阶仪分析表 明：薄膜的沉积速率随衬底温度增加呈指数函数增加，算出)DE 薄膜的反应激活能为$M( A, NGH J’ 。原子力显 微镜分析表明：薄膜致密而光滑，均方根粗糙度为+ ( BB@ OJ 。扫描电镜截面微观形貌分析表明：薄膜呈现柱状 结构。P 射线衍射分析表明：)DE 薄膜为面心立方晶体结构，并具有显著的择优取向；当衬底温度约为$++ Q 时，平均晶粒尺寸最大（*# ( A OJ ），晶格微应变最小（+ ( **BR ）。 ! ! 关键词：! 脉冲激光沉积（058 ）；! )DE 薄膜；! .:E 靶；! 面心立方结构；! 反应激活能 ! ! 中图分类号：! 1$M$! ! ! ! 文献标识码：! 6 ! ! 在.:E 物理实验中，:-H )DEH :- 三层复合薄膜是常用的薄膜靶之一。在:-H )DEH :- 三层复合薄膜的制 备中，)DE 薄膜的制备是关键。此外，)DE 是一种典型面心立方结构的碱卤化合物，它具有宽光学带隙（! T S ［］ ［* ］ ［@ ］ ［$ ］ ( , U% ） 和优良的色心性能，可以作为光学储能材料 、色心激光器泵浦材料 和高密度光存储材料 ，在 ［B?, ］ 光波导、太阳能材料以及核子探测器等方面具有广阔的应用前景 。 ［M ］ ［# ］ ［+ ］ ! ! 迄今为止碱卤化合物薄膜制备的方法很多，主要有热蒸发 、电子束蒸发 、脉冲激光沉积（058 ） 等。 本工作采用058 方法在7C（++ ）衬底上制备了)DE 薄膜。采用台阶仪分析了薄膜的沉积速率及反应激活能； 采用P48 分析了薄膜的微观结构；采用6E 和73 分析了薄膜的微观形貌。分析结果可为制备高质量的 .:E 物理实验靶提供参考。 % 实 验 %$ % 激光靶材料的制备 ! ! 先采用质量百分数为## ( ##R 的)DE 粉末在真空室内由模具压制成 @+ JJ K B JJ 的圆片。压制过程中