掺杂不同钛含量氮化锆薄膜的制备.pdfVIP

第26卷 第 5期 摩 擦 学 学 报 Vol26， No5 2006 年 9月 TRIBOLOGY Sep，2006 掺杂不同钛含量氮化锆薄膜的制备 及其摩擦性能研究 姚舜晖 ，苏演 良 ，高文显 ，郑凯文 (1．长荣大学 会计信息系，台湾 台南 归仁 711；2．成功大学 机械工程系，台湾 台南 701； 3．建国科技大学 机电光系统研究所 ，台湾 彰化 500) 摘要：采用非平衡磁控溅射技术制备含不同钛含量的氮化锆(z卜Ti—N)复合薄膜材料，并研究薄膜基本特性及其摩擦 磨损性能．结果表明：随着 含量增加 ，z卜Ti—N薄膜硬度有所提高；在Ti含量为 18．7at．％时，薄膜的硬度达到最大值 2483HKo ；当添加 16．5at．％Ti时，硬度值略有降低 ，但临界载荷最高，耐磨性最佳． 关键词 ：复合材料；Zr—Ti—N薄膜；摩擦磨损性能 中图分类号：TH117．3 文献标识码：A 文章编号：1004-0595(2006)05-0413-04 近几年来许多研究都致力于具有独特性质和结 靶材，位于圆形溅射舱周围，每90。配置 1个；靶材 构的新型薄膜材料 ¨卫J，纳米复合薄膜则为其一 J． 尺寸为300mm×109mm×6mm，其最大面正对 1 另外，可以采用控制制备参数及元素组成获得高硬 副旋转试样夹具，旋转轴位于溅射舱圆周中线．用 3 度、低摩擦系数和高韧性等特性 的纳米 复合薄 个纯度达 99．9％Zr靶材和 1个 Ti靶材同时配置于 膜 J．过渡金属氮化物、特别是4b族(TiN、HfN和 溅射系统中，靶材与基材之间的距离固定为80mm． ZrN等)薄膜是近年来纳米复合薄膜研究的焦点，如 在薄膜沉积过程中，由试样夹具以固定转速 3r／min 其特殊的光电性质和机械特性及其与化学组成、微 旋转，将Ti加入ZrN中制备zr—Ti-N薄膜．底材采用 结构等相互作用等．Regent等 J研究表明，在 CrN 硅片和经抛光 (表面粗糙度 尺 约 0．1 m)的AISI 薄膜中添加 10at．％Ni可 以大幅增加硬度．Zeman M2高速钢2种，观察薄膜 内部组织和厚度的试样用 等 研究发现，在 ZrN中加入约 1％～2at．％Cu，可 硅片底材，其余以M2为薄膜底材．薄膜制备步骤： 使其弹性恢复率提高80％．因此，添加第三相元素 (1)腔体抽真空度 2×10 Torr后，在氩气流量为 纳米复合材料可望制备具有优异性能的薄膜．ZrN 50sccm(压力为2．3×10 Torr)和偏压 一350V 具有熔点高、耐腐蚀性好 和电阻率低 等优点， 下，利用氩离子(Ar)冲击底材和靶材，清洁与预热 ZrN与TiN色泽相似，被用于家庭装饰中的硬质涂 15min；(2)在沉积 zr．Ti-N前，先沉积厚约0．1 m 料材料，其 良好的低温感测特性还可用于冷冻环 的纯 zr中间层，以加强薄膜与底材的粘着强度．其 境 ，同时在半导体工业中，作为铜硅接触扩散阻 参数为同时施加 1A电流于 3个 Zr靶 ，基材脉冲偏 碍层 ¨亦显示出优 良特性．本文作者采用非平衡磁 压一100～0V，频率50Hz，工作循环 50％，氩气流 控溅射技术制备不同Ti含量的zr—Ti．N薄膜，并对 量为30sccm(压力为 1．6×10 Torr)，溅射时间为 其力学性能和摩擦磨损性能进行研究，以期为拓展 10min；(3)缓慢通入氮气形成氩-氮的混合气体而 其应用范围提供实验依据． 制备出z卜Ti—N薄膜，Ti靶电流为 1～4A，同时施加