LCD黑矩阵的激光制造技术.pdfVIP

维普资讯 LCD黑矩阵的激光制造技术 ●杨 小天 摘要：本文提 出了一种新型的LCD黑矩阵激光制造技术，设计了以高功率Q开关半导体泵浦的Nd：YAG固 体激光器为主体的激光系统，采用激光背照射喷水辅助的方法制作 了黑矩阵样品，有效解决了图形精度和残 留物的PI题。激光技术与现有的光刻技术相比具有多方面的优越性，很有可能成为现有光刻工艺的取代者。 种光敏感材料，在底栅结构器件中沟道位于 1rI叩器 1 引 言 件的顶部，因此在TFr—LCD的使用过程中．外界光 当今世界，液晶显示器 (LCD)是平板显示器中 线容易直接照射到沟道的a—sj材料上 ，从而引起 的主流产品。关于LCD制造技术的研究非常活跃 ， IF’-r器件关态特性 的劣化 ，影响 IF’-r的保持特性 ： LCD的基板尺寸越来越大 ．显示品质也越来越好 ， 原因之二是像素之间的间隙属于非加电控制的区域． 以前为人所诟病的视角问题现在已经得到了完美的 如果漏光会使图象的对比度严重下降。基于以上的原 解决，响应速度也缩短到了几毫秒 。与此 同时， 因．在LCD器件中采用黑矩阵将上述各部分遮盖起 LCD市场的价格战也愈演愈烈 ，LCD面板的价格呈 来是非常必要的，可以有效防止显示质量的降低。 逐年下降的趋势。在这种激烈竞争的态势下，LCD 黑矩阵通常制作在彩色滤光膜面板上。早期的 面板生产厂商都非常重视新技术的开发和应用，以 黑矩阵材料采用的是黑色的Cf膜，现在则大多采用 求在生产技术上领先于竞争对手并在制造成本上占 黑色聚合物并在其中添加光敏材料，利用光刻工艺 据优势。激光技术是当今最先进 的工业加工技术之 Commoneleetrode 一 ， 在平板显示制造业中也已有所应用并表现出令 人满意的效果，如在等离子体显示器(PDP)中取代 湿法光刻工艺制作ITO图形，不仅在制造速度和图 形精度方面与湿法光刻工艺相当，而且由于无需使 用化学试剂而对环境有保护作用，长期的制造成本 也有所降低 ．经济效益和社会效益都非常显著。 在 IF’-r—LCD中，引入黑矩阵主要是考虑2个方 面的原因：一是a—SirFT器件中的有源层a—si是一 图 1 肝 LCD的横截面示意图 维普资讯 制作矩阵图形。近年来，国际上又发展出了一种新 型制造工艺 ，采用喷墨打印的方法直接打印出彩色 滤光膜和黑矩阵图形，与光刻工艺相比大幅节省了 材料，很有可能发展成为下一代彩色滤光膜的主流 制造技术。 利用激光技术制造黑矩阵的方法也早有人研究， 但激光制造方法一直存在精度差和有残留物质 2个 方面的问题。本文提出了一种新型喷水辅助激光背 照射制造技术 ，有效解决了上述2方面的问题 ，与 图 2 实验所用的激光系统原理图 光刻技术相比具有多方面的优越性，很有可能成为 器。图3显示的是匀光器输出光束的均匀性测量曲 现有光刻工艺的替代技术。 线。 2 黑矩阵的激光制造技术 2．1湿法光刻技术及其缺点 j 湿法光刻技术是当前制造黑矩阵的常规技术。 昼‘ 湿法光刻工艺分为以下几个主要步骤：涂胶 、前烘、 旦 曝光、显影、坚膜。黑矩阵树脂材料本身加有光致 抗蚀剂 ，所以通过显影就可以形成黑矩