控电位法制备CdSe纳米线阵列及其性能研究.pdfVIP

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控电位法制备CdSe纳米线阵列及其性能研究.pdf

2014年7月 电镀与精饰 ·1· 第36卷第7期(总256期) doi:10.3969“issn.1001—3849.2014.07.ool 控电位法制备CdSe纳米线阵列 及其性能研究 王宏智, 卢 敬, 姚素薇, 张卫国 (天津大学化工学院杉山表面技术研究室,天津300072) 摘要:以seO:为硒源,以阳极氧化铝为模板,采用电化学方法对SeO,在碱性电解液中的还原过程 进行了分析,确定了控电位制备CdSe纳米线的沉积电位和镀液组成,并分析了其沉积机理。在此 基础上,以阳极氧化铝为模板,通过控电位法成功获得CdSe纳米线阵列。采用扫描电子显微镜、透 射电子显微镜和x一射线衍射对所制备的材料进行了形貌和结构表征。扫描电镜形貌分析表明, CdSe纳米线阵列高度有序、直径均一;直径约100nm,与模板孔径一致。x.射线衍射测试表明,所 制得的cdse纳米线为立方晶型。光电性能测试表明,Cdse纳米线阵列电极的开路电位差值为 324.8 mV,高于cdse薄膜(125.5mV);光催化降解罗丹明B测试表明,5h后,cdse纳米线的降解 率达94.29%,强于cdSe薄膜(52.03%)。 关键词:AAO;CdSe纳米线;电沉积;光电响应;光催化 中图分类号:TQl53.2,0646文献标识码:A andPhotoelectrochemicalofCdSeNano丽res Synthesis Properties Co璐tantPoteIltial Method by Deposition WANG Hong—zhi,LUJing,YA0Su—wei,ZHANG Wei—guo ofSu如ce ofChemical and U. (Sugiyamalaboratory Technology,School EngineeringTechnology,Tianjin niVersity,Tianjin300072,China) AA0as and asSe of was ina1. Abstract:UsingtemplatesSe02 source,reduction processSe02 analyzed kaline method.The and wereob. electmlytebyelectrochemistry depositionpotentialelectrolyteconsisting tained.Wealso the mechanism.ThenCdSenanowireswere con. investigateddeposition pIDducedusing stant methodinAAO

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