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控电位法制备CdSe纳米线阵列及其性能研究.pdf
2014年7月 电镀与精饰 ·1·
第36卷第7期(总256期)
doi:10.3969“issn.1001—3849.2014.07.ool
控电位法制备CdSe纳米线阵列
及其性能研究
王宏智, 卢 敬, 姚素薇, 张卫国
(天津大学化工学院杉山表面技术研究室,天津300072)
摘要:以seO:为硒源,以阳极氧化铝为模板,采用电化学方法对SeO,在碱性电解液中的还原过程
进行了分析,确定了控电位制备CdSe纳米线的沉积电位和镀液组成,并分析了其沉积机理。在此
基础上,以阳极氧化铝为模板,通过控电位法成功获得CdSe纳米线阵列。采用扫描电子显微镜、透
射电子显微镜和x一射线衍射对所制备的材料进行了形貌和结构表征。扫描电镜形貌分析表明,
CdSe纳米线阵列高度有序、直径均一;直径约100nm,与模板孔径一致。x.射线衍射测试表明,所
制得的cdse纳米线为立方晶型。光电性能测试表明,Cdse纳米线阵列电极的开路电位差值为
324.8
mV,高于cdse薄膜(125.5mV);光催化降解罗丹明B测试表明,5h后,cdse纳米线的降解
率达94.29%,强于cdSe薄膜(52.03%)。
关键词:AAO;CdSe纳米线;电沉积;光电响应;光催化
中图分类号:TQl53.2,0646文献标识码:A
andPhotoelectrochemicalofCdSeNano丽res
Synthesis Properties
Co璐tantPoteIltial Method
by Deposition
WANG
Hong—zhi,LUJing,YA0Su—wei,ZHANG
Wei—guo
ofSu如ce ofChemical and U.
(Sugiyamalaboratory Technology,School
EngineeringTechnology,Tianjin
niVersity,Tianjin300072,China)
AA0as and asSe of was ina1.
Abstract:UsingtemplatesSe02 source,reduction
processSe02 analyzed
kaline method.The and wereob.
electmlytebyelectrochemistry
depositionpotentialelectrolyteconsisting
tained.Wealso the mechanism.ThenCdSenanowireswere
con.
investigateddeposition pIDducedusing
stant methodinAAO
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