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摆式抛光机的运动摩擦学分析,摩擦学学报,摩擦学,摩擦学原理,摩擦学国家重点实验室,摩擦学导论,摩擦学原理pdf,全国摩擦学大会,纳米摩擦学,摩擦学原理温诗铸
制造技术 /工艺装备 2009 1
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Preston, ,
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: TQ320 : A : 167 1 3133( 2009) 01 0077 04
Analysis on k inem atical tribology of pendu lum polish ing m ach ine
WANG W ug ng, LU Yush n
( School ofM ech n ic lEngineering, Sheny ng Ligong Un iversity, Sheny ng 110168, CHN )
A bstrac t: In order to obt in the effects of polishing p r meters on the surf ce profile of silicon w fer, the kinem tic l equ tion on
pendu lum polisher is est blished ccord ing to the tr nsform tion of coordin te system. B se on k inem tic l equ tion nd Preston
equ tion on m teri l rem ov l r te, using the m ethod ofMonte C rlo, the tr jectory of the br sive grit cutting nd the friction d is
t nce on the s ilicon w fer re num eric lly smi u l ted, nd the effects of the rot tion l speed of the polishing d isk, the m plitude
nd in iti lizing ngle of sw ing rm on the tr jectory nd the friction dist nce h ve been d iscussed, the s mi u l tive resu lts show th t
there re optmi l polishing p r m eters, wh ich c n m ke the distribution ofm teri l remov l r tem ore uniform ity nd the tr jectory
better on w fer surf ce.
K ey w ord s: Chem ic lM ech nic l Polishing( CMP); polishing k inem tics; friction d ist nce; m teri l rem ov l r te
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, ( Chem ic lM ech n i ( IC), IC
c l Polishing, CM P) ,
CM P, ,
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