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维普资讯 等离子体刻蚀过程的APC技术研究进展 王巍 一．叶甜春 ，刘明 ， 陈大鹏 (1．重庆邮电学院光电工程系，重庆 400065；2．中国科学院微 电子研 究所，北京 100029) 摘要：先进过程控$1J(APC)是一个多层次的控制系统，其包含了实时的设备及工艺控制和非实时的 RtR 控制。APC引入等离子体刻蚀过程控制可极大提高刻蚀机的使用效率。针对等离子体刻蚀过程，本文分别 从实时控制和RtR控制两个不同层次展开了论述，概述了RtR控制器中所使用的线性回归模型和神经网络模 型 。最后 ，讨论 了APC 技术的发展趋势 。 关键词 ：等离子体刻蚀 ；先进过程控制；实时控制 ；流程与流程控制 中图分类号 ：TN305．7：TN405．98 文献标识码：A 文章编号 ：1003．353X(2005)12-0001．04 ProgressofAdvanceProcessControlTechnique forPlasmaEtchingProcess W ANG wei ，YETian-chun ，LIU M ing，CHEN Da-peng (1．CollegeofoptoelectronicsEngineering，CQUPT,Chongqing400065，China； 2．Instituteof Microelectronics，ChineseAcademyof Sciences，Be@ing100029，China) Abstract：Advancedprocesscontrol(APC)iSmulti。levelcontrolsystemthatincludesreal。time equipmentandprocesscontrolaswellasnon-real-timerun-to-run(RtR)contro1．Theefficiencyof plasmaetcherwillbegreatlyimprovedwhenAPCtechniqueincorporatedintoplasmacontrolsystem ． Theapplication ofreal-timecontroland RtR controlforplasma etchingprocesscontrolare discussesed．Thelinearregressivemodelandneuralnetworkmodelarealsodiscussed．Finally．the developingtrendOfAPC iSprospected． Keywords：plasmaetching；APC；real-t·imecontrol；run·t·o·r·uncontrol； 期获得理想的工艺过程或产品的方法学。通过使用 1 APC的概念及研究范围 与加工材料及测量数据所得到的信息，APC可根据 集成电路生产线投资成本高，为了尽快收回投 最后所需要达到的目标来选择应采用何种模型及控 资成本，需要不断提高设备的生产效率…。采取各 制策略来控制可操作变量的值。APC也可决定能否 种措施来提高设备的利用率，让工艺生产线具有可 达到预期的 目标 以及通知用户进行必要 的设备维 延伸性、灵活性和可伸缩性，尽量延长使用周期， 护 。总而言之 ，APC可对 以下问题作出相应 的判 提高工艺设备的稳定性，减少设备的停机维护时 断 ： 间。APC是为了满足以