SMD(贴装电子元器件)电镀锡、锡铅镀层可焊性能不稳定因素分析及它(微电子器件电镀常见问题技术交流).pdfVIP

SMD(贴装电子元器件)电镀锡、锡铅镀层可焊性能不稳定因素分析及它(微电子器件电镀常见问题技术交流).pdf

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摹六石畚再袁西工寰牛术●议 兰州 2004丰8月 SMD(贴装电子元器件)电镀锡、锡铅镀层 可焊性能不稳定因素分析及其它 (微电子器件电镀常见问题技术交流) 摘要:分析了盎属基材品质、镀前处理、镀液特性,工艺条件、镀后处理,焊接工艺、工艺操作细 节等园素对镀层可焊性的影响.涉及工艺的重要细节和建议. 关键词:阴一阳极投影 除膜污染中和工序均布电力线 离散性镀层厚度精度 在电镀三部曲(镀前处理、电镀、镀后处理)中,我们来分析造成可焊性能不稳定的原因。我 们再从基材本身和焊接工艺等全面的分析可焊性能不稳定的原因。 镀层可焊性能不良表现在爬锡试验技术指标的下降。 下面我们作——剖析: 1.基材品质。基材品质是影响电镀品质因素之一. 1.1基材原始品质(制作微电子器件框架的原始基材) 1.1.1,基材夹灰,造成框架上有规律性的条纹庇病。 1.1.2,基材成份金相不均,造成工艺过程中的选择性腐蚀,使局部区域粗糙。 1.2 基材在工艺过程中的过腐蚀现象,造成粗糙。 1.2.1,在制成框架过程中,工艺失控造成过蚀现象而粗糙。Ni42Fe基材在制成微电子空框架的 过程中,要通过:除油·热水喷洗·电解除切13毛刺一喷洗一强蚀·喷洗-活化-镀铜·喷洗· 活化·掩镀银(局部镀银)·喷洗·退镀铜·喷洗·干燥等工序。 其中强蚀、退镀铜等工序如果失控,就有可能造成过蚀而粗糙。 1.2.2,在D/B、W/B(焊片、焊线)、塑封、固化过程中,温度失控或保护气体失控,造成框架 表面过氧化现象。在除去了氧化层后形成粗糙的表面。 1.2.3,在电镀工艺中,包括除溢料过程,如果工艺失控,造成基材因过腐蚀而粗糙。 2.镀前处理工艺失控; 2.1,除溢料不净,造成掩镀、假镀,影响可焊性。 2.2,除油不净,镀层起泡,影响可焊性。 2.3,除氧化膜不净,影响镀层结合力,影响可焊性 2.4,电镀前活化不良,影响镀层结合力,影响可焊性。 2.5,工艺过程中由于不同基材公用一个功能槽,而可能造成置换镀层,影响镀层结合力,影响可 焊性。如Ni42Fe基材和cu基材在镀前处理时公用疏松毛刺液、公用去氧化液、公用活化液等, 造成Ni42Fe基材表面有置换铜层。 3,键液的性能变化影响电镀品质: 3。1,主金属离子浓度失控,影响镀层品质。 3.2,络合剂失控影响阴极极化,影响分散能力和深镀能力。 3.3,添加剂失控影响阴极极化,影响分散能力和深镀能力。 330 第六届奎啊表面工藿学g.t..it 兰州 2006年B月 3.4,镀液中杂质离子的污染,也包括有机杂质影响。影响镀层品质。 4.电镀工艺条件失控影响电镀品质 4.1,电流密度失控(过大)造成镀层粗糙。 4.2,温度失控造成锡铅金相比失控。 4.3,阴-阳极投影不合理,造成厚度偏差大。 5.镀后处理工艺条件失控,影响电镀品质。 5.1,漂洗不彻底,造成盐迹。 5。2,‘中和’液参数失控,造成除去镀层表面吸附有机膜的效果差。 5.3,镀后处理作业不文明,如产品严重擦伤、表面污染等。或生产线上各槽液位高度不合理,而 造成漂洗作业中的交叉污染。 5.4,工件干燥不透,保存过程中易起霉。 6.焊接工艺失控影响可焊性: 6.1,助焊剂品质差。 6.2,温度控制失灵。 6.3,焊料品质差。 6.4,焊接工装不合宜。 6.5,没有及时除去锡铅炉表面的氧化物。 ★工艺操作细节对产品质量影响的敏感性。 如果电镀工艺中对合金成份控制不严,含铅量由5~15%合金的熔点只有相差4~5℃。 对焊接工艺不会造成很大的影响。但是,在整个工艺设置的是否合理性和作业的是否合理性,却 对产品的品质有很大影响。例如,如果在浸泡SYD-712(一种溶胀疏松毛刺的有机碱溶液)后,没 有设置‘中和’工序,结果有一部份产品在电镀后返工。因为表面附有没有洗干净的有机碱,烘干 后作喷砂作业时,有机碱干膜在电镀线上有时洗不干净,造成不合格镀层。如在浸泡疏松毛刺液后, 经漂洗然后再增加用稀硫酸‘中和’的工序,就一帆风顺了。这例子说明工艺细节上要在实践中不 断改进,但应遵循IS0—9000管理体系的程序,实行工艺体制的管理。 ★在镀层厚度对可焊性的影响上,根据多年的实践,可以得到的模

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