高准确度多功能激光直写装置.pdfVIP

第38卷第10期 光子学 报 V01．38No．10 2009 2009年10月 ACTAPHOTONICASINICA October 高准确度多功能激光直写装置* 范永涛1，徐文东1+，刘前2，郭传飞2，曹四海2 (I中国科学院上海光学精密机械研究所，上海201800) (2国家纳米科学中心，北京100080) 摘 要：采用高数值孔径物镜和高准确度纳米平台搭建了一台激光直写装置，可以在光敏感薄膜材 料上进行打点、刻画矢量和标量图形等多种操作，其最小特征尺寸小于300rim。重复性5nm．在刻 写前准确标定刻写激光功率，刻写过程中采用象散法精确自动聚焦，刻写完成后采用两种不同波长 的激光束探测样品的透过率和反射率的细微变化，最终实现了高准确度亚微米图形的刻写和检测． 关键词：激光直写；微纳加工；自动聚焦；功率标定 中图分类号：TN305．7 文献标识码：A 文章编号：1004—4213(2009)10—2476—5 0 引言 1 装置结构 21世纪纳米科技将成为推动世界各国经济发 激光直写装置的光路结构如图1，其主要由刻 展的驱动力之一，将给医学、制造业、材料和信息通 写激光调制光路和离焦检测光路两部分组成．刻写 信等行业带来革命性的变革…．激光直写技术作为 激光器采用532nm波长的固体激光器，其最大输 众多微纳米加工手段中的一种。具有成本低、加工周 出功率高达2W，功率长时Iu】稳定性高达1％．刻写 期短、使用灵活、环境要求低等诸多优点，在微电子、 激光经过声光调制器调制后，一级衍射光通过小孔、 集成光学、微机电系统，混合集成电路、微波集成电 PBS、扩束镜，被光谱分光镜反射进入物镜，会聚在 路制作方面获得广泛应用，是一种具有广阔发展前 样品表面．本装置中采用的显微物镜数值孔径达到 景的实用技术旧…． 0．95，会聚光束的焦深不足0．4“m，在大范围刻写 目前，包括美国、日本、意大利在内的多个国家 时无法保证样品光敏感层始终处于会聚光束焦深范 都进行了激光直写技术的相关研究，中困在激光直 围以内．为此，在本系统中采用675nm波长的红光 写技术研究方面起步稍晚，但也取得可喜成绩，长春 半导体激光器进行辅助聚焦．之所以另外单独采用 光机所、苏州大学和浙江大学现代光学仪器国家实 一束红光进行聚焦探测，是由于相对于刻写激光，红 验搴等多家单位进行了相关方面研究¨“．然而，由 光波长较长，光子能鼍较低，町以在不破坏样品、不 于侧苇点和刻写对象的不同，早期研发的激光直写 干扰刻写的情况下对样品表面进行不问断地离焦探 装置的最小线宽基本都在1肚m左右，与最新的半导 测，扩大了本装置的使用范围，使其可以适厢于多种 体工艺水平相差了一个数量级。因此并不适合用来 不同性质的样品材料．显微物镜围定在Ij丁沿Z轴运 研究新型微纳米材料或结构．针埘这种情况，我们采 动的压电陶瓷(PZT)纳米位移台上，用来进行聚焦 用高数值孔径物镜和高准确度纳米位移平台，开发 调节．样品固定在二维纳米平台上，在计算机的控制 出最小刻写尺寸小于300nm的多功能激光直写装 下，纳米平台带动样品沿一定路径移动，声光调制器 置，可作为实验搴研究新型纳米材料或纳米结构的 通用平台．近些年来，具有超分辨材料和结构(如 super—RENS等)不断被发明并应用于光盘存储 中∽]，而使用本装置刻写具有光学超分辨特性的薄