原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
氧气流量对射频磁控溅射制备Cu2O薄膜性能的影响.pdf
第39卷第5期 人 工 晶 体 学 报 v01．39N。．5
垫!鱼生!Q旦 』Q堕垦堕垒垦 Q!墨!堕!旦垦卫垦垦垦!墨坠坐 Q!!旦生!：圣Q!Q
一
氧气流量对射频磁控溅射制备
O薄膜性能的影响
Cu2
林龙，李斌斌，鲁林峰，江 丰，沈鸿烈
(南京航空航天大学材料科学与技术学院，南京210016)
摘要：通过磁控溅射方法在玻璃衬底七制备Cu：0薄膜，采用x射线衍射(XRD)、分光光度计、原子力显微镜
sccm
(AFM)和x射线光电子能谱(XPS)等研究了氧气流量对Cu：O薄膜性能的影响。结果表明：氧气流量为4．2
时，薄膜为单相的Cu：O，具有较高的结晶质量和可见光透过率，光学带隙为2．29eV，薄膜的导电类型是P型且空
穴浓度为2×10”cm。。通过XPS能谱分析cu2p，疋和Ols结合能，确定了薄膜中cu以+l价存在。
关键词：氧化亚铜；磁控溅射；电阻率；光透射率；氧气流量
中图分类号：0484 文献标识码：A
Effectof FlowRateonthe of Oxide
Cuprous
Oxygen Properties
ThinFilms RF
Sputteredby Magnetron
Bin—bin，LU
LIN厶愕，U Lin-feng，JIANGFeng，SHEN舶昭一胁
ofMaterialScienceand ofAeronauticsand
University Astronautics，Nanjing210016，China)
(CoUege Technology，Nanjing
26 6 2010)
(ReceivedAprlt2010，ac∞ptedMay
filmswere on substrate
Abstract：Cuprousoxide(Cu20)thin depositedglass bymagnetronsputtering
the thinfilms
method．Theinfluenceof flowrateon of 0 wa$investigatedbyX-ray
oxygen propertiesCu2
diffraction(XRD)，UV—vis force
spectrophotometer，atomicmicroscope(AFM)andX·rayphotoelectron
showthatwhenthe flow isat4．2
results oxygenrate sccm，singlephaseCu
文档评论（0）