α-C H膜系与氮化物膜系的结构性能比较及机理分析.pdfVIP

第49卷第16期 机械工程学报 Vbl．49NO．16 20l 3年8月 JOURNALOFMECHANICALENGINEERINGAug． 2O1 3 DoI；10-3901／JM匮．2013．16．091 仅．C：H膜系与氮化物膜系的结构性能比较 及机理分析水 于斌斌1 袁军堂1 汪振华1 胡小秋1 王 飞2 (1．南京理工大学机械工程学院南京210094； 2．苏州大学物理科学与技术学院苏州215005) 膜系，膜层厚度均为2“m。利用扫描电子显微镜、原子力显微镜、Ranlan光谱、X射线衍射仪分析三种薄膜的微观结构和 晶结构、表面平滑的薄膜，粗糙度值仅为5．21nlTl，划痕试验临界载荷为17．8N。而晶态的TiNx与crM膜层粗糙度较高， 且其表面存有“熔滴”，但其结合强度较高，划痕试验临界载荷达80 沉积在YG6硬质合金基体上的膜层单位磨损率均比SKDIl不锈钢基体上的膜层低。 关键词：离子束技术a-C：H膜多弧离子镀TiN膜CrN膜 中