单晶纳米硅薄膜的制备及其场发射特性.pdfVIP

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2015-09-29 发布于湖北
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单晶纳米硅薄膜的制备及其场发射特性.pdf

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第卷第期半导体学报 25 6 . 25 , . 6 Vo1 N o 年月 2004 6 C~IN ESE JOURN AL OF SEMICON DUCTORS Ju ne , 2004 ================================================================= % - Fabrication and Field emission of silicon n ano Crystalline Film 1 1 , 2 1 1 1 Wang Weiming , Yu k e , Ding Yanf ang , Li Oiong and Zhu Zigiang ( 1 DePart?ent of EZectronzc Engzneerzng , East Chzna Nor?aZ UnzUerszty , Shanghaz 200062 , Chzna ) ( 2 SchooZ of Physzcs anc MzcroeZectronzcs, Shancong UnzUerszty , Jznan 250100 , Chzna ) ; - ( - ) 100 , 0. 01 , - Abstract The si1icon nano cr ysta11ine nc Si f i1m is f abr icated on or ientation D cm r esistivity and p - - type bor on doped si1icon Waf er by the ano