12顶点[1-R-CB11-Me11]-碳硼烷氧化-还原过程二阶NLO效应的理论研究.pdfVIP

V01．34 高等学校化学学报 No．12 CHEMICAL0FCHINESEUNIVERSr】皿S 279l～2797 2013年12月 JOURNAL 过程二阶NLO效应的理论研究 王娇1，张梦颖1，邹海艳1，于海玲2，王文勇1，宋红娟1，李晓倩1，仇永清1 (1．东北师范大学化学学院，功能材料化学研究所，长春130024； 2．吉林农业大学资源与环境学院，长春130118) 应进行计算分析．结果表明，c位连接的取代基R供、吸电子能力的不同以及分子发生可逆氧化-还原反应 对分子构型有一定影响．由自然键轨道(NB0)电荷和电子自旋密度分析可知，分子的氧化中心是碳硼笼，分 子的氧化反应可导致碳硼笼部分给、受体特性发生改变．氧化态分子的第一超极化率总有效值(p。)大于相 应还原态分子，当c位取代基R为供电子基团(一NH：)的分子时，氧化态与还原态的p。值变化最大．这类 分子的氧化一还原反应可以有效调节