IC制造中硅片边缘上光刻工艺的波动问题及研究.pdfVIP

目 录 . . . . . . . . . . . . . . . . … … … … . . . . . . . . … … 摘 要 。。.0. 。 二 ，二 。1 A b s t r a c t … … . . . . . . . . . . . . … … … … . . . . . . . . … … 。。。。·2 第 一 章 引言 … . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . … … … 二 ，，. 4 第 一 节 集 成 电路 (IC)及 集 成 电路 制 造 流 程 简 介 … 。二 。. 。。。。. 。… . . … 4 第 二 节 光 刻 技 术 ····… … ’‘… ’. ”二 ’. ”… ’. ”二 ’… ’. 二 ” . 5 第 二 章 IC 制 造 中硅 片边 缘 上 光刻 工 艺 的波 动 问题 现状 和 改善 方 案 ·。。。。。。·10 第 一 节 硅 片 边 缘 问题 概 述 以及 光 刻 工 艺 相 关 问题 。。二 。。二 。… 。 。。。。。·10 第 二 节 晶 圆边 缘 光 刻 工 艺 问题 现 状 分 析 . . … . . . . . . . . . . . … … l l 第 三 节 本 论 文 主 要 内容 和 拟 解 决 的 问题 . . … . . . . . . . … … 13 第 三 章 0.6u m Pow er MOS 工 艺 硅 片边 缘 上 光 刻 工 艺 的波 动 问题 研 究 .。… … 14 第 一节 Pow er MOS 边 缘 离焦 问题 的基 本介 绍 ·············. ····… … 14 第 二节 边 缘 离焦 问题 的研 究 ··. ····························… … 巧 第 三 节 本 章 小 结 ······································… … ‘·‘20 第 四章 12 英 寸 gonm/45nm 边 缘 上 光刻 问题 的解 决方 案研 究 ·········… … 21 第 一 节 12 英 寸 工 艺 技 术 以及 硅 片 边 缘 问题 的基 本 介 绍 ·········… … 21 第 二 节 12 寸 工 艺 中硅 片 边 缘 上 光 刻 工 艺 的波 动 问题 研 究 。。。。。… 。。。.0 24 研 究 一 Tw IN SCAN 光 刻 机 的 CHUCK 问题 导 致 周 边 图 形 漂 移 的 研 究 ···········································… … 24 研 究 二 . EB R/ WEE 优 化 解 决周 边 问题 的研 究 ··············… … 25 研 究三 . Leve ling 优 化 解 决 周边 问题 的研 究 ··············… … 29 研 究 四. 硅 片 BEVEL