涂层一属基体界面区的金激光熔合处理.pdfVIP

一 E l l l993年5月 宾矗材辩科学与工羞 i8卷 第毫娴 一 涂层一金属基体界面区的 激光熔合处理 郭蕾成 倪 胃年 刘克舅 (北京理工 学 1 门 ) 摘 要 对渌层一金属基体界面区的激光熔-~-：x艺，熔合 区的组织 结构，元 素分布进行了研冗 结果表明，该方法既可保持涂层原有性能，又可增加淙 层一基体 问结合 强度 。 、 关键词 涂层 激光处理 表面强化 ／ ’——一 一 一 ’ ／ ’ - 工业生产中常采用在金属零件表面喷涂涂层 的方法来瞒足使用时对零件表面特殊的 性能要求。但现采用的制备涂层方法，均存在基体和涂层之间结合强度低 的弱点，因而 限制了涂层 的应用范围。为解决浚问题 ，已进行了许多研究工作 。其途径主要是把界面 问的机檄结合方式改变为冶金结合。本文研究了在 A1、Ti合金基材上喷涂Ni基合金溶 层后 ·进 行激光熔合处理的工艺和界面区的组 织 结 构 关手金属 材 料 激 光 强化 处 理 、!和台金化 、4均有很多报导．但有关涂层熔合处理的报导很少，所 以熔合处理 中很多问题 尚须探讨 。 I 材料和方法 1．1 材料 ． 实验用ZLLo1、LD8锚台金和TC4钛合金为基体材料 。材料成份见表 l 试样尺寸 为 40r~：rrt×20mlTt×100ram 用等离子喷诛法制备涂层，材料为Ni／Al粉料 。粒 度为 0～250目。 寝 1 材料成份 (wt舫) 材 料 Cu Mg Si Fe Ni A1 V Ti ZLt01 0．2一O．4 6．0～ 8．0 LD 8 1．9～ 2．5 1．4～ 1．8 0．5～ 1．2 TC4 3．5～4．5余量 1992年9月15日收到稿件，1993年3月10日收到修改稿 静锚成 北京理工夫学盎相教研 室，北京 100081 — 32 一 T．2 涂 屡制备 采用GP一80等离予喷涂装置峨弥。喷{Ij： 前经清洗 表面粗化。喷涂参数：工作气体N； 每小时2．0m 送粉气体Ni每小时0．25m’， 电压70V，电流500A，喷距 140ram。涂层厚 度约为0．4mm。 1．5 激光处理 图 1 激光处理示意圈 采用JL6A型横 向流动闭台循环CO；、 2kW 激光器 。处理 用直线扫描式，见图 1。处理过程 中用Ni气保护。光斑为4mm。 1．4 检蔫 对处理前后材料 的组织结构，元素分布用光学显微镜 扫描电镜和 电子探针进行了 观察和测定。 2 结果和讨论 2．1 激光工艺和熔台匿关系 由于研究的目的是使基体 (S)和涂层 (B)界面区熔合，提高界面问结合强度 并 保持涂层 的连续性不被破坏 。因此必须优化激光处理工艺参数。使甩的JL6A型激光器 其波长 一10．6um、焦距，=200mm。实验是在一定功率和焦距条件下 ，采甩不同的扫 描速度进行处理，并按照处理后涂层状况把扫描速度划分为三个区间。涂层 状 况 分为 (8)涂层破坏I (b)涂层完整，界面熔台} (c)界面未溶台三种况情 。表2列 出不 同材料出现 (a)和 (c)状况的工艺参数。由衷 中数据可知．二