氧化物发光薄膜材料的制备及表征.pdf

摘要 本文在查阅国内外大量文献的基础上对目前发光薄膜的制备进 行了综述。随着信息技术的飞速发展，人类社会正大踏步迈进信息化 时代，各种新兴媒体不断涌现，大量高精度电子化系列产品迅速普及， 电子显示器件越来越重要，各种各样的平板显示器件(FPD)更是如此， 它们普遍具有薄型、轻质、低电压驱动、低功耗，而且适用于数字技 术等特点。 同传统的由发光粉制成的显示屏相比，薄膜型荧光材料具有优 良的导电性和导热性、高对比度和高分辨率、相对较低的释气速率、 良好的均匀性、并且与衬底结合良好，提高了材料耐高温及大电流 的程度，薄膜散热快，避免了荧光的淬灭，所以荧光薄膜制备在各 类显示器件中具有重要意义。 溅射法、脉冲激光沉积法、金属有机物化学汽相沉积法等方法， 虽能控制薄膜的组成及生长方向，也可降低后处理温度，但设备昂贵， 成本高，不适于制备大面积的薄膜等。我们提出了一种新型的制备薄 膜发光材料的方法一电沉积一灼烧法，相比于设备昂贵、制备成本 高的气相沉积法，电沉积法的成本大大降低，可通过控制电量来方便 调节薄膜厚度，另外在ITO玻璃上直接进行发光材料的制备，可大大 简化发光器件制备的工艺。采用电化学．灼烧法制备出了Y203：Eu、 特征发光，与基质材料的关系不大；兰紫色ZnO发光薄膜，其发光范 较明显的两个发射峰，为有近紫外和蓝光两个发光波段。研究了不同 电沉积条件对v203：Eu3+、Y203：Tb”、ZnO薄膜发光强度的影响。 使用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观测了薄膜的表面形 态，结果显示薄膜表面均匀平整，是由粒度较小的微晶组成的。用 XRD检测薄膜结晶情况，在500℃条件下制备的发光薄膜晶型完整。 采用电化学和电化学石英微天平(EQCM)进行了电沉积氢氧化 钇的机理研究，机理研究表明，电极上沉积氢氧化钇是分步进行的， 首先是电极上还原硝酸根产生氢氧根，然后是氢氧根与电极表面吸附 的钇离子产生氢氧化钇并沉积在电极上。电化学过程是控制总个反应 的慢反应，ko为1．616x10一，其速率常数非常小，需要较大的过电位 才能促使反应的进行。 用无机盐为原料，改变过去一直用醇盐为前驱体的溶胶．凝胶工 艺，用六次甲基四氨法和柠檬酸制备了稳定的Eus+掺杂的Y203溶胶， 并对溶胶．凝胶工艺条件进行优化，分析了在不同的温度下热处理时 凝胶化学成分变化及不同工艺制备的溶胶对薄膜制备的影响。采用旋 涂法制备了均匀的Y203：Eu3+发光薄膜，研究热处理条件下薄膜的晶 体结构变化和薄膜的表面形貌及其发光性能，比高温固相法的成晶温 度降低了200℃以上。 溶胶．凝胶法制备的无机发光薄膜均匀、无裂纹、粒子堆积非常 紧密。薄膜的发光性能与溶胶的制备工艺、添加剂的种类有较大的关 系，对比添加六次甲基四氨和柠檬酸，前者的发光性能明显好于后者， 后者的发光强度只有前者的73％，通过对发光薄膜的XRD分析，可 以看出前者晶相纯度明显优于后者。 把含铕配合物掺入Si02基质中，通过对工艺条件的优化制得不 开裂的发光薄膜，研究了稀土配合物在Si02基质中的发光性能，重 点研究了苯甲酸铕在Si02基质中的热稳定性和配位情况，以及掺杂 浓度和热处理温度对材料发光性能的影响。PEG的加入有助于提高 发光强度，是因为降低了羟基的荧光淬灭。发光薄膜在594nm和 618nm处出现强发射，单位质量稀土配合物的发光强度提高了2倍左 右。X．衍射和AFM分析结果表明合成的苯甲酸铕／Si02是一种非晶态 的固体，PEG400掺入薄膜中能很好分散在Si02基质中。 电化学沉积和溶胶一凝胶法是制备发光薄膜材料的非常好的方 法，在导电的基底上制备发光薄膜材料时最好采用电化学方法，而在 非导电的基底上制备发光薄膜材料则可采用溶胶凝胶法。 关键词：发光薄膜， 电化学法， 沉积， 溶胶．凝胶法， 表征 Ⅱ ABSTRACT Overviewof ofluminescentthinfilm preparation iSmadebasedon thea amountofreferencesat and