厚胶光学光技术研究.pdf

厚胶光学光刻技术研究 光学专业 研究生唐雄贲 指导教师郭永康教授 厚胶光学光刻具有工艺相对简单、与现有IC工艺流程兼容性好、制作成本 低等优点，是用来制作大深度微光学、微机械、微流道结构元件的一种很重要 的方法和手段，具有广阔的应用前景，因而是微细加工技术研究中十分活跃的 领域。厚胶光刻是一个多参量的动态变化过程，多种非线性畸变因素的存在， 使得对其理论和实验的研究，与薄胶相比要复杂得多。本论文针对国内外厚层 光学光刻研究现状，以研究制作高质量大深度微结构元件的相关理论和技术为 目标，以厚胶光刻过程的物理、化学机理为基础，从理论到实验工艺进行了较 深入的研究。 首先，针对厚胶光刻的特点，基于角谱理论，对抗蚀剂进行分层处理，建 立了衍射光场在厚层光刻胶中传输的标量模型。考虑到各分层频率间隔的变化 和计算量的要求，提出了快速傅立叶的改进算法。对于光刻图形线宽较小、深 宽比较大情形，由于横向上的折射率非均匀分布对光场分布影响不可忽略，利 用傅立叶模方法，建立了描述厚层光刻胶内衍射光场形成过程的矢量模型。厚 层光刻胶内衍射光场传输的物理模型的建立为准确、快速、有效的模拟厚层光 刻胶光刻全过程打下了基础。 然后，编写了模拟厚胶光刻全过程的模拟计算软件，该软件包可以对光刻 胶内部衍射光场、光敏化合物空问分布，光刻胶显影轮廓进行二维以及三维模 拟，这不仅有利于深入理解厚胶光刻过程机理，而且为光刻过程工艺的优化提 供了重要工具。在此基础上，模拟分析了曝光波长、空隙距离及光刻胶吸收系 数对光刻胶面形质量的影响。 接着，以AZP4620光刻胶为研究对象，理论分析了曝光光强对反应速率的 影响，并实验上考察了曝光光强及前烘与坚膜工艺参数对光刻面形轮廓的影响。 利用SU-8制作出了微马达的部分零件一微齿轮和微活塞，为以后进一步深入制 作大深度微结构元件奠定了基础。 最后，对厚胶光刻过程的非线性畸变的成因作了深入分析，为减小或消除 这种非线性畸变对显影后浮雕面形质量的影响，基于模拟退火算法，提出了对 所设计的编码灰阶掩模进行优化预校正的新方法，其校正后显影轮廓面形质量 得到明显改善，这对设计、制作高质量的微结构元件的有十分重要的意义。 关键词：厚层光刻胶；光学光刻技术；非线性畸变校正；大深度微结构元件； 面形质量；模拟退火算法；计算模拟 ■Jll大尊坤I士尊哩嘴，： 011 Research OpticalLithography FilmResists ofThick Major：Optics Guo Supervisor：ProfessorYongkang Graduate：TangXinnggui ofthickfilmresistsisall with for important easy lithography approach Optical and with used cost fabrication,lowcompatibleintegrated forfabricationofmicrostracturewith in也efieldof aswell largedepth micro-optics andmicro-electromechanicalthe asmicro．fluidi