合成参数对rnw和crnzrn纳米多层膜的结构及其性能的影响.pdfVIP

中文摘要 摘要 纳米级的材料微观设计与制造技术是开发研制新材料的有效途径。本文分别 使用离子束辅助沉积和非平衡直流磁控双靶交替反应溅射方法在Si(100)表面 性能的提高。在此目标之下，本文系统研究了纳米多层膜中的微观结构与硬度、 弹性模量、内应力等力学性能，摩擦系数、磨损率等摩擦磨损性能，以及与调制 周期、轰击能量等诸多因素之间的关系。 离子束辅助沉积ZrN／W多层膜部分： XRD分析结果表明：固定辅助能量为100eV，随着调制周期的增加，有微 期，随着离子辅助能量的增大，ZrN(111)的衍射峰变得更尖锐。 AES的分析结果表明：薄膜内部含有的主要元素为zr，w和N，在整个膜层 中其含量随溅射时间均呈现周期性的变化，这从侧面证明了薄膜的多层结构。与 低角度XRD测试结果吻合。薄膜与基底之间存在一个混合区，同时存在zr、N 和Si三种元素，说明Zr、N已经渗透到基底表面下一定深度。 所有薄膜的厚度都控制在500．600nnl；多层膜的压应力都低于两单质薄膜 应力的平均值。固定辅助能量为100eV，随着周期的增加应力大致呈增长趋势。 调制周期为5．1nln的样品具有最小的压应力卜2．5 GPa)。固定调制周期，随着辅 助能量的增加，应力呈减小趋势。 固定辅助能量为100eV，纳米硬度和弹性模量均随调制周期的增加先增大 后减小，在A=8．6rlm时，多层膜的硬度和弹性模量均出现最高值。固定调制周 期，随着辅助能量的增加，纳米硬度和弹性模量先增加后减小，辅助能量为300 eV时多层膜的机械性能达到最佳。所有多层膜的临界载荷均高于两单质薄膜的 平均临界载荷。在划痕过程的五分之一处对划后样品进行横向扫描测试，辅助能 eV，A=8．6 量为100 nln的多层膜的沟宽、残余深度和划后表面的堆积都仅有单 层膜的十分之一。 磁控溅射沉积CrNfZrN多层膜部分： 中文摘要 的择优取向或者是飘移的CrN(220)峰。转速为11 rpm和4rpm条件下制备的 样品的调制周期分别为2。2nm和3．6nm。 量保持恒定且与设计的薄膜成分基本一致。 薄膜应力的平均值。固定NI-13／N2比为13％，随着调制周期的增加应力大致呈减 小趋势。基底转速为7rpm条件下合成的多层膜具有最小的压应力(．2．3 GPa)。固 定基底转速为11 rpm，NI-13与N2流量比为19％时，薄膜的压应力最低。 所有的CrN／ZrN多层膜的硬度均高于两个单质膜的硬度平均值。固定 NH扪q2比为13％，多层膜纳米硬度随着调制周期的增加有减小的趋势，在转速 为11 rpm时合成的样品薄膜有最高硬度31Gpa。固定基底转速为11rpm，当NH3 与N2流量比为27％时，薄膜的硬度最高达到32 Gpa。 CrN单膜的磨损率要远低于ZrN，基底转速为11 rpm，NH3与N2流量比为 13％时合成的周期为1．45 nm的多层膜的磨损率最小，尽管它的摩擦系数不是最 低，这也说明影响耐磨性的因素不是只由摩擦系数决定的。 以上研究结果证明：用离子束辅助沉积技术可以制备机械性能优良的ZrN／W 多层膜，用非平衡直流磁控溅射技术可以制备机械性能优良的CrN／ZrN多层膜， 通过改变调制周期、辅助能量和反应气体的流量等工艺参数，可以控制薄膜的结 的应用提供了有价值的实验和理论数据。 关键词：离子束辅助沉积，非平衡直流磁控溅射，ZrN／W，CrN／ZrN，力学性能， 摩擦磨损性能 英文摘要