ch_4h2系统电子助进化学气相沉积气相过程研究.pdfVIP

摘 要 摘 要 体的电子助进化学气相沉积(EACVD)金刚石薄膜中的气相分解过程进行了研究， 初步建立了EACVD气相动力学模型，并讨论了EACVD中的低温沉积过程。主 要结果如下：平均电子能量随着反应室内气压的增加呈下降趋势；在较低气压范 围内平均电子能量随着反应源气体中甲烷浓度的增加而减少；在较高气压范围内 平均电子能量则随着甲烷浓度的增加而增加；随着气压的增加碎片H和CH3的数 Ej并玎i是一直增加的，而是在不同的特定气压下出现各自的最值；碎片携带的能 量基本随甲烷浓度和气压的增加而减小。所得结果对于EACVD合成金刚石薄膜 ；中实验参数的选择及低温下合成高质量的金刚石薄膜具有重要的意义；同时，对 于定量地研究各种实验条件对EACVD沉积会刚石的影f砌具有重要的参考价值。 关键词化学气相沉积；Monte—Carlo模拟；低温沉积；甲烷浓度 Abstraet Abstract Inthis dissociation thediamondfilm paper，thegasphase processduring growth fromelectron·assistedchemical vapordeposition(EACVD)byconsideringCH4／H2 mixtureassourcehadbeenstudied Monte—Carlo simulation gas gas byusing computer methodTheEACVD modelwasbuilt andthelow gasphasedynamics firstly wasalsodiscussed．Themainsimulationresultswere temperaturedepositionprocess asfollow：the ofelectrondecreaseswiththe averageenergy increasingpressure；it decreaseswiththe methaneconcentrationinthe inthelower increasing fillinggas inthe andincreases number of pressurerange higherpressurerange；the density Hand doesnot increaseswiththe reachesan fragmentCH3 always gaspressure，but ndividual carriedneutraldissociative decreases maximum；energyby CH3 fragment with and concentration．Theobtainedresultsan CH4 increasinggaspressure