利用多弧离镀和磁控溅射制备含钛陶瓷薄膜以及对膜性质的研究.pdfVIP

中文摘要 摘要 本论文利用多弧离子镀和磁控溅射技术在317L医用不锈钢及单晶 对所有薄膜的结构和物理性能进行测试和分析，比较几种薄膜在硬度、耐 磨性、耐腐蚀性等机械性能，并讨论成纤维细胞，内皮细胞在不同样品表 面、不同时间的贴壁生长和吸附特性。 稳定，沿深度分布均匀，在薄膜表面都有碳、氧元素的污染。薄膜厚度多 100nm， 实验测得利用多弧离子镀在基底si片上制各的TiN薄膜厚度为l 推算出本实验室多功能多弧离子镀设备的沉积率为36．7rim／rain，溅射镀膜 的沉积速度为2．55nm／min。XRD分析表明采用多弧离子镀技术在医用不锈 钢和硅片上所镀TiN以及采用磁控溅射所得的TiN薄膜，都呈多晶态，都 含有TiN相和各自的基底的相。TiN在(111)晶面都有强烈的择优取向。 硅基底与317L对择优取向的影响没有明显的差别。在不同条件下，硎涂 层的相结构组成基本相同，但相对量不一样。TiNC薄膜经分析表明为 C07No Ti组成，主要成分为TiN，只在浅层表面有少量的Ti-o的键合。 TiN薄膜都呈光亮的金黄色，TiNC为深黄色，TiC为深灰色。利用金 相显微镜观察发现薄膜表面形貌较粗糙且不均匀。TiN薄膜的硬度和扬氏 模量都很高。TIN薄膜都有一定的压应力，对提高材料表面的抗疲劳性都 有作用。采用多弧离子镀制备的TiN薄膜的粗糙度比它的si基底明显提高， 这主要与成膜的方法有关。镀有含钛生物陶瓷薄膜比未镀试样的耐磨性提 高了近100倍。工艺参数的负偏压增加，涂层的耐磨性提高。磁控溅射的 薄膜的耐磨性较多弧的差。 最后对薄膜的生物相容性进行了多项测试。多弧TiN，TiNC，溅射TiN 和317L的接触角值相近，si和317L基底对所做薄膜接触角的影响没什 中文摘要 么差别。用电化学方法比较317L不锈钢空白试样和溅射离子镀，多弧离子 镀两种不同方法制备的TiN薄膜的耐腐性能。结果是在370C0．9％NaCl 溶液中的耐蚀性次序为多弧离子镀制备TiN薄膜优于磁控溅射的TiN薄膜， 再优于317L不锈钢空白试样。用SEM观察成纤维细胞三个培养时间ld， 2d，3d在不同薄膜上的生长形态发现：ld后只有少量细胞在各种表面贴壁 生长，多弧制备的TiN薄膜上细胞生长状况最好。经过48小时之后，在所 有薄膜上的细胞的数量都有明显增多。在317L上沉积的几种薄膜中多弧制 培养后，各种含钛陶瓷薄膜上的细胞，互相交错成网状，生长情况都很良 好。用SEM观察内皮细胞培养12天在薄膜表面的生长情况良好。 关键词： 多弧离子镀，磁控溅射，TiN，TiNC，TiC，生物相容性 Ⅱ 英卫捕竖 ABSTRACT TiC are Onthesurfaceof317L synthesized coatings TiN，TiNC，and of stainless meansmulti-arc (medical singlecrystalsilicon(100)by steel)and and atdifferent technology deposition sputtering magnetron ion-plated