脉冲激光沉法制备纳米功能薄膜的形膜条件及其性能研究.pdfVIP

欧阳钢 脉冲激光沉积法制备纳米薄膜的形膜条件及其性能研究 摘 要 本工作采用脉冲激光沉积法(PLD)制备出纳米金刚石薄膜 (NCD)和类金刚石薄膜(DLC)，初步研究了薄膜沉积时的参数： 衬底温度、激光能量、气体压强等对薄膜生长的影响，并分析了纳 米金刚石薄膜的生长机理。利用高能脉冲激光(波长532nm，脉冲 200mJ／p)轰击高纯石墨靶，薄膜直接沉积在三氧化二铝(d．A1203) 和单晶硅衬底上。利用多种手段对样品进行了表征。结果表明：在 时，样品表现出纳米金刚石薄膜的特征，它是由六方金刚石和立方 金刚石颗粒混合生长而成，颗粒尺寸分布范围10～20nm大小。进 一步分析了氧气在PLD薄膜制备过程中热力学作用，通过提供超 平衡原子氧，使石墨靶中的熔蒸部分变成激活石墨项，使反应的 Gibbs自由能小于零，有效地降低了形核势垒。衬底温度在形核过 程中起着重要的作用，当温度改变时，薄膜呈现出明显的类金刚石 薄膜特征，通过经典的成核热力学模型对温度的影响做出了理论分 析。此外，对类金刚石薄膜的力学性能和红外增透性能做出了初步 的研究。 全文安排如下：第一章介绍了实验装置和实验方法，对脉冲激 光沉积纳米薄膜技术作了简要的概述，同时对纳米金刚石薄膜的研 制条件、表征和生长机理作了阐述。第二章主要研究了薄膜的生长 参数对薄膜生长的影响，并侧重于制备时衬底温度的变化影响情 况，从理论上做出了一定的分析。并从表面形貌分析、x射线衍射、 Raman散射光谱等多方面阐述了薄膜的生长特征。第三章着重予 分析氧气在PLD系统中的热力学作用，并与CVD生长方法中氢气 的作用做了比较。第四章主要研究了纳米薄膜的力学性能和红外光 学增透性能。 本工作为纳米金刚石薄膜和类金刚石薄膜的合成与研究提供 欧阳钢 脉冲撤光沉积法制备纳米薄膜的形膜条件及其性能研究 了一些重要的实验数据和初步的理论依据，对该薄膜材料作为功能 材料的应用范围，并早日进入实用化阶段有一定的意义。 关键词。脉冲激光沉积技术 纳米金刚石薄膜 类金刚石薄膜 性能 欧阳钢 脉冲激光沉积法制备纳米薄膜的形膜条件及其性能研究 iii Abstract thin thin anddiamond—likefilms diamondfilms Nanocrystalline been laser technical．Inthis have bypulseddepositing paper, prepared theeffectofsubstrate we studied temperature，laserenergy primarily thin the and onthe ofthe films，and gaspressure growth growth havealsobeen of diamondfilms mechanisms nanoerystalline analyzed US．Thesecondharmonic a Nd：YA