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2015-10-27 发布于贵州
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脉冲激光烧石墨靶制备超硬非晶碳膜

杨益民脉冲激光烧蚀石墨靶制备超硬非晶碳膜摘要奉丈研究用脉冲激光烧蚀石墨靶方法在单晶硅、K9玻璃等衬率1或5Hz。第‘章简要介绍了实验装置、激光烧蚀固体靶的 S-N模型和Y．Lifshitz提出的次表面生长模式。第二章和第三章分别从引入离子轰击和施加直流偏压电场两方面着重研究了外界条件作为辅助手段对非晶碳生K的影响。其中第二章从表面形貌、x射线衍射、Raman散射光普等多方面阐述1r非晶碳的研究手段和一般特征。第三章中本文作者自己设计了一套直流偏压装置及信号测量装置及方案，从激光等离子体在偏压电场作用下的导通特性测量，研究了偏压对激光等离子体空间膨胀过程的影响机理。第四章研究了激光束聚焦对非晶碳膜生长的影响，并找剑一J合适的激光束直径。第五章研究了玻璃和单晶硅衬底，kqiE晶碳对紫Jt-年H红外光的吸收特性，发现非晶碳适应于制作硅衬底上波长短于8微米的红外增透兼保护膜。关键词：脉冲激光，激光烧蚀，离子轰击，直流偏压，红外增透杨益民脉冲激光烧蚀石墨靶制备超硬非晶碳膜 2 Abstract carbonfilmswere onsuch amorphous Super—hard deposited K9 substratesas siliconand by laser single—crystalline glasspulse with of 532nm，duration ablatinggraphitetarget．Laserwavelength timeabout10nsand 1 or5Hzwasused．The frequency repeating ofthe charterl introducedtheschematics experimentalsetup，the model laser solid the of model)and pulsedablatingtarget(S-N modelforfilm Y．Lifshitz． subplantation growingproposedby bombardmentanddirectcurrentbiaswere Ion—assisted IIandcharterIII on incharter studying emphasized respectively how factorasanassistedavenuecaninfluencethe external growth