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Zn 对SnxZnCu 界面微空洞的影响.pdf
Zn 对Sn-xZn/Cu 界面微空洞的影响 杨扬 陆皓 余春 陈俊梅 (上海交通大学,上海200240 摘要:本文研究了微量Zn 元素在热老化过程中对SnxZn/Cu 电镀 界面空洞的抑制作用 x 为重量百分比,分别为0,0.2,
0.5,0.8 ,并对其抑制机理进行了分析。结果表明,经热老化处理后,Sn/Cu 电镀 界面的Cu3Sn 层出现大量空洞。随着Zn
含量的增加,Cu3Sn 层逐渐变薄甚至消失,空洞也随之显著减少或消失。另外发现,钎料中Zn 含量为0.8%时,Zn 会溶入
Cu Sn 层中,形成 Cu, Zn Sn 和Cu Sn, Zn ,从而改变了Cu Sn 层的微观组织结构,影响空洞的形成。 6 5 6 5 6 5 6 5 关键词:SnxZn 电镀Cu 界面 空洞
0 前言 一层厚度约为 10μm 的Cu 膜,将其剪切成尺度为 10mm×10mm 的小片。为去掉表面氧化层及油污, Sn 基钎料与Cu 基板的界面反应是微电子互连 将箔片依次用5wt%NaOH 和5vol%HCl 溶液清洗,
领域普遍关心的问题。在固态热老化过程中,Sn 基 每步清洗之后需用去离子水冲洗。 将约200mg 重
钎料/Cu 界面形成 Cu Sn 和 Cu Sn 金属间化合物 的钎料置于箔片中心,并在表面涂覆助焊剂以保证 3 6 5 IMC 层,同时,经常在Cu Sn 层和Cu Sn/Cu 界面 焊接质量及减少氧化,将其放入热处理炉内进行 3 3
发现微空洞。研究表明,空洞的存在会严重影响钎 250 ℃回流处理。随后在180℃下对焊态样品分别进
焊接头的可靠性[1-4]。一些学者将空洞的产生归因 行3 天 和 7 天的固态热老化处理。
于界面反应过程中元素的不平衡扩散[2, 5, 6],即柯 热老化试样制备完毕后,用环氧树脂及固化剂
肯达尔效应,但没有考虑杂质的影响。Yang 等人[7] 将其冷镶,并对其截面进行研磨和抛光处理。试样
采用不同的Cu 基板研究了Sn-Ag/Cu 反应界面,发 的界面形貌由扫描电子显微镜 SEM 中的背散射电
现空洞仅在使用电镀 Cu 基板的界面出现,而在使 子成像技术 BSE 表征,界面微观组织的成分用能
用轧制 Cu 基板的界面空洞不明显。他们认为这些 谱仪 EDX 进行分析。
空洞可能是电镀过程中吸附的过多 H 引起的。
Laurila 等人[8]提到了空洞与杂质的关联性,指出 2 实验结果与讨论
Sn、Sn-Ag-Cu 等钎料与高纯Cu 形成的界面不会产
生空洞。另外,Kim 等人[9,10]认为电镀过程中引 图1a 为回流态未经热处理的Sn/Cu 电镀 界面
入的S 元素导致了空洞的产生,而Liu 等人[11,12] 的微观组织形貌,界面生成一薄层扇贝形Cu Sn , 6 5
和 Yin 等人[13]则认为空洞是由电镀过程中吸附的 没有空洞出现。Yang 等人的实验研究表明,使用高
有机大分子或团簇所引起。 纯Cu 基板时,即使在180℃下对Sn/Cu 接头热老化 综上所述,电镀 Cu 过程中产生的各种类型的 处理 30 天,界面处也不会有空洞出现。这说明单
杂质是空洞形成的主要因素之一。由于空洞影响互 纯的柯肯达尔效应不足以导致空洞产生[17]。然而,
连界面的性能和寿命,如何抑制或消除空洞已成为 使用电镀Cu 基板时,仅对Sn/Cu 接头在 180℃热老
国内外学术界的一个新的关注点。研究表明,Zn 化处理3 天,在Cu Sn 层和Cu Sn/Cu 界面处就发 3 3
对抑制界面空洞效果明显[14-16]。然而,对于钎料 现了高浓度的空洞,如图 1b 所示。并且,越靠近
中究竟添加多少Zn 能明显的抑制空洞,还不得而 Cu 基板,空洞浓度越高。基板的差异引起的不同界
知。本文通过向纯Sn 钎料中添加不同含量的Zn , 面形貌表明,空洞与基板之间存在很大关联。在基
研究Zn 及其含量对 Sn/Cu 界面反应的影响,并初 板的电镀层中存在C、O、Cl、S、H 等杂质元素存
步探讨了Zn 对空洞的抑制机理。 在[13]。这些元素以游离态原子存在,或以有机分 子形式存在,目前还没有定论。在固态热老化过程
1 试验方法 中,Cu 基板 电镀 逐渐被消耗,其中的杂质也会不 断被带入反应界面,从而引起空洞产生,这也可能 Sn 钎料为锡粒 纯度99.9% 。SnxZn 钎料由锡 是靠近Cu 基板处空洞密度很大的主要原因之一。
粒和锌粒 纯度均为 99.9% 炼制。试验中使用的基 Kim 等人[16]提出在钎料中加入S 形成元素 如
板为:在纯度99.9%、厚度0.1mm 的铜
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