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~维二氧化锗纳米结构的制各与光学特性
陈晓波
摘要本论文采用原位热氧化法、常压化学气相沉积法和水热法,制备了二氧化
锗纳米线和纳米锥。研究了它们的形貌、晶体结构、发光和Raman特性,提出了
可能的生长机理,发现了紫外光的发光现象,讨论了结构和性能的关系,为氧化
锗纳米结构的光电性能及其应用研究奠定基础。
位大面积生长出了Ge02纳米线。纳米线的结构为六方相Ge02,长度达长达30m.
通过改变加热温度,纳米线的直径可在110-17013m范围内调节。提出了可能的生
长机理以说明Ge嘎纳米线的形成,在Ge02纳米线的拉曼光谱中观察到了声子限
制效应引起的峰的移动。
(2)单质锗与氧气反应原位生长的Ge02纳米线及其发光性质以Au作催化剂通
过会属锗与纯氧在600—800C的氧化反应,在单质锗表面原位大面积生长出了Ge02
纳米线。Ge02纳米线为六方相单晶结构,其直径在65-340
nm范围内,长度长达
50pm。研究了反应温度和时间以及会膜的对纳米线直径的影响,提出了可能的生
长机理。实现了不同直径Ge晚纳米线的可控合成。发现发光峰位于355nm的强紫
外光发光和发光峰位于400和485
am的弱蓝光发光,这两种发光可能分别起源于
Ge02纳米线中氧空位与|’日J隙氧之间的跃迁和氧空位中的电子与锗一氧空穴中心的
空穴复合。
面原位大面积生长出了Ge02纳米线。Ge02纳米线为六方相单晶结构。长度达长
达300re。通过改变加热温度和时I’日J以及喷会时间,纳米线的直径可在110.160啪
范围内调节。纳米线的生K遵循气.液一固生长机理,发现发光蜂位于355nm的强
紫外光发光和发光峰位于485nm的弱蓝光发光,这两种发光可能分别起源于
Ge02纳米线中氧空位与蚓隙氧之问的跃迁和氧空位中的电子与锗.氧空穴中心的
空穴复合。
(4)通过常压化学气相沉积法.在单质硅表面大面积生长出了Ge02纳米锥。采
用扫插电镜、激光拉曼光谱和透射电子显微镜对产物进行了表征分析。结果表明,
Oe02纳米锥为六方相多晶结构,中部直径在270—500
am,长度可达13Ilm。研究
了反应温度和时fB】对纳米锥直径的影响,提出了可能的生长机理。
线衍射仪、扫描电镜和透射电子显微镜对纳米线进行了表征分析。结果表明,在
线的直径为30
nln左右,长度1.5l,tm。提出了可能的水热反应机理。
关键词:Ge02,生长机理,拉曼光谱,光致发光,原位热氧化法,水热法,
常压化学气相沉积
and of
OpticalProperties
Preparation
Germaniumdioxidenanostructures
OBe.Dimensional
Nanowiresandnanoconesof havebeen thein-siVa
Abstract Ge02 preparedbyusing
thermal chemical and
hydrothermal
oxidation,atmosphericpressure vapordeposition
methods.The and
structures,Raman
morphologies,crystal
of of were the
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