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绒面掺铝氧化锌明导电薄膜的制备与表征
绒面掺铝氧化锌透明导电薄膜的制备与表征 中文摘要
绒面掺铝氧化锌透明导电薄膜的制备与表征
中文摘要
ZnO薄膜材料因具有无毒、源材料丰富、相对生长温度低和在强H等离子体环
境中性能稳定等特点获得了广泛研究和应用。其中ZnO:AI(AZO)薄膜由于电阻率低,
在可见光区域透过率高而备受关注,被广泛地应用于硅基太阳电池前电极。然而,硅
基太阳电池除了要求前电极具有优异的光电性能以外,还要求薄膜表面具有凹凸起伏
的绒面结构,实现有效的光散射从而提高电池的光电转换效率。
本文采用射频磁控溅射法在硅和石英衬底上成功制备了不同溅射功率下的AZO
薄膜,研究了溅射功率对AZO薄膜结构及光电性能的影响,后又采用湿法刻蚀方法
对AZO薄膜表面进行织构化处理,研究不同的刻蚀时间对薄膜表面形貌的变化及相
同的刻蚀时间下不同溅射功率制备的AZO薄膜刻蚀行为的差异,得出的研究结果如
下:
着功率的增加,衍射峰的强度和半高宽减小,衍射峰向大角度方向移动,这是由于半
显示,随着溅射功率的增加,薄膜表面由圆点状向瓦片状转变,颗粒逐渐变大,AFM
膜垂直于基片生长,随着溅射功率的增加,薄膜由柱状生长方式变为片状生长方式。
离子进入到ZnO的晶格内形成了掺铝氧化锌化合物。
二、采用霍尔系统测试了AZO薄膜的电学性质,发现随着溅射功率的增加,AZO
薄膜的载流子浓度和霍尔迁移率均增加了,从而导致薄膜的电阻率降低,最小值为
所有薄膜在可见光区域的透过率均在80%以上,溅射功率为200W的样品的平均透过
中文摘要 绒面掺铝氧化锌透明导电薄膜的制备与表征
率最高,达86%。此外,所有的AZO薄膜的透射曲线都有一个明显的特征吸收边,
且随着功率的增加,样品的特征吸收边向短波方向移动,即产生了吸收边蓝移的现象。
三、初沉积的AZO薄膜的表面比较平滑,首先采用体积分数为0.5%的稀盐酸对
图显示刻蚀后样品表面呈现坑状形貌,随着刻蚀时间的增加,坑越深越大,腐蚀时间
所有AZO薄膜进行30s的刻蚀,发现不同溅射功率下的AZO薄膜刻蚀后显示出不同的
坑状形貌,表现为坑的大小、深度、分布密度不同,其中溅射功率为170W的AZO薄
膜腐蚀后表面分布的坑特征尺寸达500nm,分布均匀,在500nm处的绒度高达40.6%,
。
具有优异的光散射性能。
关键词:绒面AZO薄膜;透明导电薄膜;磁控溅射;湿法刻蚀;太阳电池
作 者:何晶晶
指导教师:吴雪梅诸葛兰剑
n
绒面掺铝氧化锌透明导电薄膜的制备与表征 英文摘要
The andCharacterizationofSurface
Preparation
TexturedZU0:AlThinFilms
Abstract
ZnOthinfilmshaveattractedmuchattentionbecauseofitsexcellentcharacteristics
suchas and inthe
cost,low stability
non-toxicity,lowgrowthtemperaturehigh atmosphere
ofH and thinfilmis usedasafront
conducting widely
plasma.ZnO:AI(AZO)trans
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